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Notícias da indústria
Tecnologia de epitaxia de baixa temperatura baseada em GaN
Este artigo descreve principalmente a tecnologia epitaxial de baixa temperatura baseada em GaN, incluindo a estrutura cristalina de materiais à base de GaN, 3. requisitos de tecnologia epitaxial e soluções de implementação, as vantagens da tecnologia epitaxial de baixa temperatura baseada em princíp......
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Qual é a diferença entre CVD TaC e TaC sinterizado?
Este artigo apresenta primeiro a estrutura molecular e as propriedades físicas do TaC e se concentra nas diferenças e aplicações do carboneto de tântalo sinterizado e do carboneto de tântalo CVD, bem como nos populares produtos de revestimento TaC da VeTek Semiconductor.
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Como preparar o revestimento CVD TaC?
Este artigo apresenta as características do produto do revestimento CVD TaC, o processo de preparação do revestimento CVD TaC usando o método CVD e o método básico para detecção da morfologia da superfície do revestimento CVD TaC preparado.
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O que é revestimento de carboneto de tântalo?
Este artigo apresenta as características do produto do revestimento TaC, o processo específico de preparação de produtos de revestimento TaC usando o processo CVD e apresenta o revestimento TaC mais popular da VeTek Semiconductor.
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Por que o revestimento de SiC é um material essencial para o crescimento epitaxial de SiC?
Este artigo analisa as razões pelas quais o revestimento de SiC é um material essencial para o crescimento epitaxial de SiC e concentra-se nas vantagens específicas do revestimento de SiC na indústria de semicondutores.
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