China Tecnologia de tratamento de superfície Fabricante, fornecedor, fábrica

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Deposição Física de Vapor

A deposição física de vapor (PVD) semicondutor Vetek é uma tecnologia de processo avançada amplamente utilizada no tratamento de superfície e preparação de filmes finos. A tecnologia PVD utiliza métodos físicos para transformar diretamente materiais de sólido ou líquido em gás e formar uma película fina na superfície do substrato alvo. Esta tecnologia tem as vantagens de alta precisão, alta uniformidade e forte adesão, e é amplamente utilizada em semicondutores, dispositivos ópticos, revestimentos de ferramentas e revestimentos decorativos. Bem-vindo para discutir conosco!

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Nanopó de Fase MAX

O nanopó de fase Semiconductor MAX da Veteksemi oferece propriedades térmicas e elétricas excepcionais, ideais para aplicações avançadas em eletrônica e ciência de materiais. Com resistência superior à oxidação e estabilidade em altas temperaturas, o nanopó da Veteksemi é a solução perfeita para tecnologias inovadoras de semicondutores.

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Tecnologia de pulverização térmica Capacitor MLCC

A tecnologia de pulverização térmica Vetek Semiconductor desempenha um papel extremamente importante na aplicação de revestimento de cadinhos sinterizados para materiais de capacitor cerâmico multicamadas de alta qualidade (MLCC). Com a miniaturização contínua e o alto desempenho dos dispositivos eletrônicos, a demanda por capacitores MLCC com tecnologia de pulverização térmica também está crescendo rapidamente, especialmente em aplicações de ponta. Para atender a essa demanda, os cadinhos utilizados no processo de sinterização devem ter excelente resistência a altas temperaturas, resistência à corrosão e boa condutividade térmica, tudo isso pode ser alcançado e melhorado pela tecnologia de pulverização térmica. Ansioso para estabelecer negócios de longo prazo com você.

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Braço robótico para manuseio de wafer

A tecnologia de pulverização térmica da Vetek Semiconductor desempenha um papel vital na aplicação de braços robóticos para manuseio de wafers, especialmente em ambientes de fabricação de semicondutores que exigem alta precisão e alta limpeza. Esta tecnologia melhora significativamente a durabilidade, confiabilidade e eficiência de trabalho do equipamento, revestindo materiais especiais na superfície do braço robótico de manuseio de wafers. Bem-vindo ao nos consultar.

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Tecnologia de pulverização térmica de semicondutores

A tecnologia de pulverização térmica de semicondutores da Vetek Semiconductor é um processo avançado que pulveriza materiais em estado fundido ou semifundido na superfície de um substrato para formar um revestimento. Esta tecnologia é amplamente utilizada na área de fabricação de semicondutores, principalmente para criar revestimentos com funções específicas na superfície do substrato, como condutividade, isolamento, resistência à corrosão e resistência à oxidação. As principais vantagens da tecnologia de pulverização térmica incluem alta eficiência, espessura de revestimento controlável e boa adesão de revestimento, tornando-a particularmente importante no processo de fabricação de semicondutores que requer alta precisão e confiabilidade. Aguardamos sua consulta.

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