Carboneto de tântalo poroso: uma nova geração de materiais para crescimento de cristais de SiC

Com a produção em massa gradual de substratos condutores de SiC, requisitos mais elevados são impostos à estabilidade e repetibilidade do processo. Em particular, o controle de defeitos, pequenos ajustes ou desvios no campo térmico do forno levará a alterações no cristal ou ao aumento de defeitos.

Na fase posterior, enfrentaremos o desafio de “crescer mais rápido, mais denso e mais longo”. Além do aprimoramento da teoria e da engenharia, são necessários materiais de campo térmico mais avançados como suporte. Use materiais avançados para cultivar cristais avançados.

O uso inadequado de materiais como grafite, grafite porosa e pó de carboneto de tântalo no cadinho no campo térmico levará a defeitos como aumento de inclusões de carbono. Além disso, em algumas aplicações, a permeabilidade da grafite porosa não é suficiente e é necessário abrir furos adicionais para aumentar a permeabilidade. A grafite porosa com alta permeabilidade enfrenta desafios como processamento, perda de pó e ataque químico.

Recentemente, a VeTek Semiconductor lançou uma nova geração de materiais de campo térmico de crescimento de cristal SiC,carboneto de tântalo poroso, pela primeira vez no mundo.

O carboneto de tântalo tem alta resistência e dureza, e é ainda mais desafiador torná-lo poroso. É ainda mais desafiador fazer carboneto de tântalo poroso com grande porosidade e alta pureza. A VeTek Semiconductor lançou um inovador carboneto de tântalo poroso com grande porosidade,com porosidade máxima de 75%, atingindo nível de liderança internacional.

Além disso, pode ser usado para filtração de componentes em fase gasosa, ajustando gradientes de temperatura locais, orientando a direção do fluxo de material, controlando vazamentos, etc.; pode ser combinado com outro carboneto de tântalo sólido (denso) ou revestimento de carboneto de tântalo da VeTek Semiconductor para formar componentes com diferentes condutâncias de fluxo local; alguns componentes podem ser reutilizados.

Parâmetros técnicos

Porosidade ≤75% Líder internacional

Formato: floco, cilíndrico Líder internacional

Porosidade uniforme

O carboneto de tântalo poroso semicondutor VeTek (TaC) tem as seguintes características do produto

●   Porosidade para aplicações versáteis

A estrutura porosa do TaC proporciona multifuncionalidade, possibilitando sua utilização em cenários especializados como:

Difusão de gás: Facilita o controle preciso do fluxo de gás em processos de semicondutores.

Filtração: Ideal para ambientes que exigem separação de partículas de alto desempenho.

Dissipação de calor controlada: Gerencia eficientemente o calor em sistemas de alta temperatura, melhorando a regulação térmica geral.

●   Resistência extrema a altas temperaturas

Com um ponto de fusão de aproximadamente 3.880°C, o carboneto de tântalo se destaca em aplicações em temperaturas ultra-altas. Esta excepcional resistência ao calor garante um desempenho consistente em condições onde a maioria dos materiais falha.

●   Dureza e durabilidade superiores

Classificado entre 9 e 10 na escala de dureza Mohs, semelhante ao diamante, o Porous TaC demonstra resistência incomparável ao desgaste mecânico, mesmo sob estresse extremo. Essa durabilidade o torna ideal para aplicações expostas a ambientes abrasivos.

●   Estabilidade térmica excepcional

O carboneto de tântalo mantém sua integridade estrutural e desempenho em calor extremo. Sua notável estabilidade térmica garante operação confiável em indústrias que exigem consistência em altas temperaturas, como fabricação de semicondutores e aeroespacial.

●   Excelente condutividade térmica

Apesar de sua natureza porosa, o TaC Poroso mantém uma transferência de calor eficiente, permitindo seu uso em sistemas onde a rápida dissipação de calor é crítica. Esse recurso aumenta a aplicabilidade do material em processos com uso intensivo de calor.

●   Baixa expansão térmica para estabilidade dimensional

Com baixo coeficiente de expansão térmica, o Carboneto de Tântalo resiste a alterações dimensionais causadas por flutuações de temperatura. Esta propriedade minimiza o estresse térmico, prolongando a vida útil dos componentes e mantendo a precisão em sistemas críticos.

Na fabricação de semicondutores, o carboneto de tântalo poroso (TaC) desempenha as seguintes funções-chave específicas

●  Em processos de alta temperatura, como gravação a plasma e CVD, o carboneto de tântalo poroso semicondutor VeTek é frequentemente usado como revestimento protetor para equipamentos de processamento. Isso se deve à forte resistência à corrosão do revestimento TaC e à sua estabilidade em altas temperaturas. Estas propriedades garantem uma proteção eficaz das superfícies expostas a gases reativos ou temperaturas extremas, garantindo assim a reação normal dos processos a altas temperaturas.

●  Em processos de difusão, o carboneto de tântalo poroso pode servir como uma barreira de difusão eficaz para evitar a mistura de materiais em processos de alta temperatura. Esse recurso é frequentemente usado para controlar a difusão de dopantes em processos como implantação iônica e controle de pureza de wafers semicondutores.

●  A estrutura porosa do carboneto de tântalo poroso semicondutor VeTek é muito adequada para ambientes de processamento de semicondutores que exigem controle preciso de fluxo de gás ou filtragem. Neste processo, o TaC poroso desempenha principalmente o papel de filtração e distribuição de gás. Sua inércia química garante que nenhum contaminante seja introduzido durante o processo de filtração. Isto garante efetivamente a pureza do produto processado.

Sobre VeTek Semicondutores

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