Carboneto de tântalo poroso

O carboneto de tântalo poroso semicondutor VeTek (TaC) é um material cerâmico de alto desempenho que combina as propriedades do tântalo e do carbono. Sua estrutura porosa é muito adequada para aplicações específicas em ambientes extremos e de alta temperatura. O TaC combina excelente dureza, estabilidade térmica e resistência química, tornando-o uma escolha de material ideal no processamento de semicondutores.

O carboneto de tântalo poroso (TaC) é composto de tântalo (Ta) e carbono (C), no qual o tântalo forma uma forte ligação química com os átomos de carbono, conferindo ao material durabilidade e resistência ao desgaste extremamente altas. A estrutura porosa do Porous TaC é criada durante o processo de fabricação do material, e a porosidade pode ser controlada de acordo com as necessidades específicas da aplicação. Este produto é geralmente fabricado pordeposição química de vapor (CVD)método, garantindo controle preciso do tamanho e distribuição de seus poros.

Estrutura molecular do carboneto de tântalo

O carboneto de tântalo poroso semicondutor VeTek (TaC) tem as seguintes características do produto

●  Porosidade: A estrutura porosa confere diferentes funções em cenários de aplicação específicos, incluindo difusão de gases, filtração ou dissipação controlada de calor.

●  Alto ponto de fusão: O carboneto de tântalo tem um ponto de fusão extremamente alto de cerca de 3.880°C, o que é adequado para ambientes com temperaturas extremamente altas.

●  Excelente dureza: O TaC poroso tem uma dureza extremamente alta de cerca de 9-10 na escala de dureza de Mohs, semelhante ao diamante. , e pode resistir ao desgaste mecânico sob condições extremas.

●  Estabilidade térmica: O material de carboneto de tântalo (TaC) pode permanecer estável em ambientes de alta temperatura e possui forte estabilidade térmica, garantindo seu desempenho consistente em ambientes de alta temperatura.

●  Alta condutividade térmica: Apesar de sua porosidade, o carboneto de tântalo poroso ainda mantém boa condutividade térmica, garantindo uma transferência de calor eficiente.

●  Baixo coeficiente de expansão térmica: O baixo coeficiente de expansão térmica do carboneto de tântalo (TaC) ajuda o material a permanecer dimensionalmente estável sob flutuações significativas de temperatura e reduz o impacto do estresse térmico.

Propriedades físicas do revestimento TaC

Na fabricação de semicondutores, o carboneto de tântalo poroso (TaC) desempenha o seguinte papel-chave específicos

Em processos de alta temperatura, comogravação de plasmae CVD, o carboneto de tântalo poroso semicondutor VeTek é frequentemente usado como revestimento protetor para equipamentos de processamento. Isto se deve à forte resistência à corrosão doRevestimento TaCe sua estabilidade em altas temperaturas. Estas propriedades garantem uma proteção eficaz das superfícies expostas a gases reativos ou temperaturas extremas, garantindo assim a reação normal dos processos a altas temperaturas.

Em processos de difusão, o carboneto de tântalo poroso pode servir como uma barreira de difusão eficaz para evitar a mistura de materiais em processos de alta temperatura. Esse recurso é frequentemente usado para controlar a difusão de dopantes em processos como implantação iônica e controle de pureza de wafers semicondutores.

A estrutura porosa do carboneto de tântalo poroso semicondutor VeTek é muito adequada para ambientes de processamento de semicondutores que requerem controle preciso de fluxo de gás ou filtragem. Neste processo, o TaC poroso desempenha principalmente o papel de filtração e distribuição de gás. Sua inércia química garante que nenhum contaminante seja introduzido durante o processo de filtração. Isto garante efetivamente a pureza do produto processado.

Revestimento de carboneto de tântalo (TaC) em uma seção transversal microscópica