- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
Notícias
Qual é a diferença entre epitaxia e ALD?
A principal diferença entre epitaxia e deposição de camada atômica (ALD) reside nos mecanismos de crescimento do filme e nas condições de operação. Epitaxia refere-se ao processo de crescimento de uma película fina cristalina em um substrato cristalino com uma relação de orientação específica, mante......
consulte Mais informação
O que é revestimento CVD TAC?
O revestimento CVD TAC é um processo para formar um revestimento denso e durável em um substrato (grafite). Este método envolve a deposição de TaC na superfície do substrato em altas temperaturas, resultando em um revestimento de carboneto de tântalo (TaC) com excelente estabilidade térmica e resist......
consulte Mais informação
Rolar! Dois grandes fabricantes estão prestes a produzir em massa carboneto de silício de 8 polegadas
À medida que o processo de carboneto de silício (SiC) de 8 polegadas amadurece, os fabricantes estão acelerando a mudança de 6 para 8 polegadas. Recentemente, ON Semiconductor e Resonac anunciaram atualizações na produção de SiC de 8 polegadas.
consulte Mais informação
Projeto de campo térmico para crescimento de cristal único de SiC
Com a crescente demanda por materiais de SiC em eletrônica de potência, optoeletrônica e outros campos, o desenvolvimento da tecnologia de crescimento de cristal único de SiC se tornará uma área-chave de inovação científica e tecnológica. Como núcleo do equipamento de crescimento de cristal único de......
consulte Mais informação
Fabricação de chips: um fluxo de processo de MOSFET
O processo de fabricação do chip inclui fotolitografia, gravação, difusão, filme fino, implantação iônica, polimento químico-mecânico, limpeza, etc. Este artigo explica aproximadamente como esses processos são integrados em sequência para fabricar um MOSFET.
consulte Mais informação
