CVD SiC é um material de carboneto de silício de alta pureza fabricado por deposição química de vapor. É usado principalmente para vários componentes e revestimentos em equipamentos de processamento de semicondutores. O conteúdo a seguir é uma introdução à classificação do produto e às funções princ......
consulte Mais informaçãoEste artigo apresenta principalmente os tipos de produtos, características do produto e principais funções do revestimento TaC no processamento de semicondutores, e faz uma análise e interpretação abrangente dos produtos de revestimento TaC como um todo.
consulte Mais informaçãoEste artigo apresenta principalmente os tipos de produtos, características do produto e principais funções do Susceptor MOCVD no processamento de semicondutores, e faz uma análise e interpretação abrangente dos produtos Susceptor MOCVD como um todo.
consulte Mais informaçãoNa indústria de fabricação de semicondutores, à medida que o tamanho dos dispositivos continua a diminuir, a tecnologia de deposição de materiais de película fina apresenta desafios sem precedentes. A Deposição de Camada Atômica (ALD), como uma tecnologia de deposição de filme fino que pode alcançar......
consulte Mais informaçãoÉ ideal para construir circuitos integrados ou dispositivos semicondutores sobre uma camada base cristalina perfeita. O processo epitaxia (epi) na fabricação de semicondutores visa depositar uma fina camada monocristalina, geralmente cerca de 0,5 a 20 mícrons, em um substrato monocristalino. O proce......
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