VeTek Semiconductor é um fabricante e fornecedor líder de produtos de substrato SiN na China. Nosso substrato de nitreto de silício possui excelente condutividade térmica, excelente estabilidade química e resistência à corrosão e excelente resistência, tornando-o um material de alto desempenho para aplicações de semicondutores. O substrato VeTekSemi SiN garante que você se beneficie de tecnologia de ponta na área de processamento de semicondutores, rigoroso controle de qualidade e agradece sua consulta adicional.
O substrato VeTek Semiconductor SiN é um avançadomateriais cerâmicosque tem atraído ampla atenção por suas excelentes propriedades mecânicas, elétricas e térmicas. Esta cerâmicasubstratoé feito de átomos de silício e nitrogênio ligados através de uma estrutura cristalina específica, exibindo resistência, durabilidade e resistência ao calor únicas. Os substratos SiN são indispensáveis em aplicações de alto desempenho, como dispositivos semicondutores, e suas propriedades melhoram significativamente a eficiência e a confiabilidade de circuitos integrados (ICs), sensores esistemas microeletromecânicos (MEMS).
Recursos do produto de substratos SiN:
Excelente condutividade térmica: O gerenciamento térmico desempenha um papel importante no desempenho de dispositivos semicondutores. A condutividade térmica da placa cerâmica SiN chega a 130 W/m·K, o que pode dissipar efetivamente o calor dos componentes eletrônicos e evitar o superaquecimento, prolongando assim a vida útil do equipamento.
Estabilidade química e resistência à corrosão: O nitreto de silício apresenta uma resistência extremamente forte à corrosão química e é particularmente adequado para uso em ambientes expostos a produtos químicos ou temperaturas extremas. Mesmo em ambientes com gases corrosivos, ácidos e álcalis, os substratos SiN mantêm a sua integridade estrutural, garantindo confiabilidade a longo prazo em aplicações industriais.
Alta resistência ao choque térmico: Os substratos SiN podem suportar mudanças rápidas de temperatura de até 1200°C sem choque térmico ou rachaduras. Esta propriedade é crítica em áreas como eletrônica de potência e sensores de alta temperatura, que são frequentemente desafiados por mudanças repentinas de temperatura.
Alta resistência e tenacidade: Comparado com outros materiais cerâmicos, a resistência à compressão deSubstrato cerâmico SiNpode chegar a 600 MPa, apresentando excelente tenacidade. Isso permite resistir efetivamente a trincas e manter a integridade estrutural em processos de semicondutores processados com precisão e de alta tensão, garantindo estabilidade mecânica.
Visão geral da fabricação de TEM de silício/nitreto de silício (Si/SiN)
O substrato VeTek Semiconductor Silicon Nitride (SiN) tornou-se um material chave na indústria de semicondutores e em outros campos devido às suas excelentes propriedades de produto. Especialmente nas áreas de dispositivos semicondutores, MEMS, optoeletrônica e eletrônica de potência, os substratos SiN estão impulsionando o desenvolvimento da futura tecnologia eletrônica, uma importante pedra angular.
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