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Mandril cerâmico SiC poroso
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Mandril cerâmico SiC poroso

A Vetek Semiconductor oferece mandril de cerâmica SiC poroso amplamente utilizado em tecnologia de processamento de wafer, transferência e outros links, adequado para colagem, rascunho, remendo, polimento e outros links, processamento a laser. Nosso mandril cerâmico SiC poroso tem adsorção a vácuo ultra-forte, alta planicidade e alta pureza que atendem às necessidades da maioria das indústrias de semicondutores.

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Descrição do produto


O mandril de cerâmica SiC poroso da Vetek Semiconductor foi bem recebido por muitos clientes e gozou de boa reputação em muitos países. O mandril de vácuo de cerâmica porosa Vetek Semiconductor tem design característico, desempenho prático e preço competitivo, para obter mais informações sobre o mandril de vácuo de cerâmica porosa, não hesite em nos contatar.

O mandril cerâmico SiC poroso também é chamado de copos de vácuo de microporosidade, a porosidade geral pode ser ajustada para o tamanho de 2 ~ 100um, refere-se ao processo especial de fabricação de nano pó para produzir uma esfera uniforme sólida ou de vácuo, através de sinterização de alta temperatura no material para gerar um grande número de materiais cerâmicos conectados ou fechados. Com sua estrutura especial, tem as vantagens de resistência a altas temperaturas, resistência ao desgaste, resistência à corrosão química, alta resistência mecânica, fácil regeneração e excelente resistência ao choque térmico, etc., que pode ser usada para materiais de filtração de alta temperatura, transportadores de catalisador, porosos eletrodos de células de combustível, componentes sensíveis, membranas de separação, biocerâmicas, etc., apresentando vantagens únicas de aplicação na indústria química, proteção ambiental, energia, eletrônica, bioquímica e outros campos.


O mandril cerâmico Porous SiC encontra amplas aplicações em processos de processamento e transferência de wafers semicondutores. É adequado para tarefas como colagem, traçado, fixação de matrizes, polimento e usinagem a laser.



Nossas vantagens:

Personalização: Adaptamos os componentes para combinar perfeitamente com o formato e o material do seu wafer, bem como com o seu equipamento e condições operacionais específicas.

Precisão Dimensional: Podemos obter precisão dimensional para atender às suas especificações exatas. Por exemplo, podemos produzir mandris para wafers de 8 polegadas com planicidade inferior a 3μm e para wafers de 12 polegadas com planicidade inferior a 5μm.

Tamanho e porosidade dos poros: Nossos mandris cerâmicos porosos apresentam um tamanho de poro que varia de 20-50μm e um nível de porosidade entre 35-55%, garantindo desempenho ideal em diversas aplicações de processamento.

Quer você precise de uma única peça para avaliação ou de mandris personalizados para múltiplas peças, nos dedicamos a atender às suas necessidades dimensionais e de materiais com precisão e

excelência. Sinta-se à vontade para entrar em contato conosco para obter mais informações ou discutir suas necessidades específicas.


Imagem do produto do mandril cerâmico SiC poroso sob microscópio



Lista de propriedades de cerâmica SiC porosa
Item Unidade Cerâmica SiC porosa
Porosidade um 10-30
Densidade g/cm3 1,2-1,3
Rugosidade um 2,5-3
Valor de sucção KPA -45
Resistência à flexão MPa 30
Indutividade 1MHz 33
Taxa de transferência de calor C/(m·K) 60-70


Oficinas de produção de mandril cerâmico SiC poroso:


Visão geral da cadeia da indústria de epitaxia de chips semicondutores:

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