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Susceptor epitaxial SiC planetário com revestimento CVD TaC

O susceptor epitaxial SiC planetário com revestimento CVD TaC é um dos principais componentes do reator planetário MOCVD. Através do susceptor epitaxial SiC planetário com revestimento CVD TaC, o disco grande orbita e o disco pequeno gira, e o modelo de fluxo horizontal é estendido para máquinas multi-chip, de modo que tenha gerenciamento de uniformidade de comprimento de onda epitaxial de alta qualidade e otimização de defeitos de único -máquinas de chip e as vantagens de custo de produção de máquinas multi-chip. A VeTek Semiconductor pode fornecer aos clientes um susceptor epitaxial SiC planetário com revestimento CVD TaC altamente personalizado. Se você também deseja fazer um forno MOCVD planetário como o Aixtron, venha até nós!

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Bandeja epitaxial de silício monocristalino com revestimento SiC

A bandeja epitaxial de silício monocristalino com revestimento SiC é um acessório importante para o forno de crescimento epitaxial de silício monocristalino, garantindo poluição mínima e ambiente de crescimento epitaxial estável. A bandeja epitaxial de silício monocristalino com revestimento SiC da VeTek Semiconductor tem uma vida útil ultralonga e oferece uma variedade de opções de personalização. A VeTek Semiconductor espera se tornar seu parceiro de longo prazo na China.

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Porta-wafer sólido de SiC

O transportador sólido de wafer SiC da VeTek Semiconductor foi projetado para ambientes resistentes a alta temperatura e corrosão em processos epitaxiais de semicondutores e é adequado para todos os tipos de processos de fabricação de wafer com requisitos de alta pureza. A VeTek Semiconductor é um fornecedor líder de transportadores de wafer na China e espera se tornar seu parceiro de longo prazo na indústria de semicondutores.

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Cobertura de satélite revestida com SiC para MOCVD

Como fabricante e fornecedor líder de cobertura de satélite revestida com SiC para produtos MOCVD na China, a cobertura de satélite revestida com SiC da Vetek Semiconductor para produtos MOCVD tem resistência extrema a altas temperaturas, excelente resistência à oxidação e excelente resistência à corrosão, desempenhando um papel insubstituível na garantia de alta qualidade epitaxial crescimento em wafers. Dê boas-vindas a suas perguntas adicionais.

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Cabeça de chuveiro sólida em forma de disco SiC

VeTek Semiconductor é um fabricante líder de equipamentos semicondutores na China e um fabricante e fornecedor profissional de chuveiro em forma de disco de SiC sólido. Nosso chuveiro em forma de disco é amplamente utilizado na produção de deposição de filmes finos, como o processo CVD, para garantir a distribuição uniforme do gás de reação e é um dos principais componentes do forno CVD.

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Suporte de barril de wafer revestido CVD SiC

O suporte de barril de wafer revestido com CVD SiC é o componente chave do forno de crescimento epitaxial, amplamente utilizado em fornos de crescimento epitaxial MOCVD. A VeTek Semiconductor fornece produtos altamente personalizados. Não importa quais sejam suas necessidades de suporte de barril de wafer revestido com CVD SiC, bem-vindo ao nos consultar.

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