Porta-wafer sólido de SiC

O transportador sólido de wafer SiC da VeTek Semiconductor foi projetado para ambientes resistentes a alta temperatura e corrosão em processos epitaxiais de semicondutores e é adequado para todos os tipos de processos de fabricação de wafer com requisitos de alta pureza. A VeTek Semiconductor é um fornecedor líder de transportadores de wafer na China e espera se tornar seu parceiro de longo prazo na indústria de semicondutores.

Enviar consulta

Descrição do produto

O transportador de wafer sólido de SiC é um componente fabricado para alta temperatura, alta pressão e ambiente corrosivo do processo epitaxial de semicondutores e é adequado para vários processos de fabricação de wafer com requisitos de alta pureza.

O sólido transportador de wafer SiC cobre a borda do wafer, protege o wafer e o posiciona com precisão, garantindo o crescimento de camadas epitaxiais de alta qualidade. Os materiais de SiC são amplamente utilizados em processos como epitaxia em fase líquida (LPE), deposição química de vapor (CVD) e deposição de vapor orgânico metálico (MOCVD) devido à sua excelente estabilidade térmica, resistência à corrosão e excelente condutividade térmica. O transportador sólido de wafer SiC da VeTek Semiconductor foi verificado em vários ambientes agressivos e pode garantir efetivamente a estabilidade e eficiência do processo de crescimento epitaxial do wafer.

Vapor-phase epitaxial growth method

O transportador sólido de wafer SiCRecursos do produto

● Estabilidade em temperaturas ultra-altas: Os suportes sólidos de wafer de SiC podem permanecer estáveis em temperaturas de até 1500°C e não são propensos a deformações ou rachaduras.

● Excelente resistência à corrosão química: Usando materiais de carboneto de silício de alta pureza, ele pode resistir à corrosão de uma variedade de produtos químicos, incluindo ácidos fortes, álcalis fortes e gases corrosivos, prolongando a vida útil do transportador de wafer.

● Alta condutividade térmica: Os transportadores sólidos de wafer de SiC têm excelente condutividade térmica e podem dispersar o calor de maneira rápida e uniforme durante o processo, ajudando a manter a estabilidade da temperatura do wafer e a melhorar a uniformidade e a qualidade da camada epitaxial.

● Baixa geração de partículas: Os materiais SiC têm uma característica natural de baixa geração de partículas, o que reduz o risco de contaminação e pode atender aos rigorosos requisitos da indústria de semicondutores de alta pureza.

Especificações técnicas:

Parâmetro	Descrição
Material	Carboneto de silício sólido de alta pureza
Tamanho de wafer aplicável	4 polegadas, 6 polegadas, 8 polegadas, 12 polegadas (personalizável)
Tolerância máxima de temperatura	Até 1500°C
Resistência química	Resistência ácida e alcalina, resistência à corrosão por flúor
Condutividade térmica	250 W/(m·K)
Taxa de geração de partículas	Geração de partículas ultrabaixa, adequada para requisitos de alta pureza
Opções de personalização	Tamanho, forma e outros parâmetros técnicos podem ser personalizados conforme necessário

Por que escolherSemicondutor VeTekanel transportador de substrato de wafer de SiC sólido?

● Confiabilidade: Após testes rigorosos e verificação real pelos clientes finais, ele pode fornecer suporte estável e de longo prazo sob condições extremas e reduzir o risco de interrupção do processo.

● Materiais de alta qualidade: Feito de materiais SiC da mais alta qualidade, garante que cada transportador de wafer SiC sólido atenda aos altos padrões da indústria.

● Serviço de personalização: Suporta personalização de múltiplas especificações e requisitos técnicos para atender às necessidades específicas do processo.

Se precisar de mais informações sobre o produto ou fazer um pedido, entre em contato conosco. Forneceremos consultoria profissional e soluções com base em suas necessidades específicas para ajudá-lo a melhorar a eficiência da produção e reduzir os custos de manutenção.