Susceptor Planetário ALD

Processo ALD significa processo Epitaxia da Camada Atômica. Os fabricantes de semicondutores e sistemas ALD da Vetek desenvolveram e produziram susceptores planetários ALD revestidos com SiC que atendem aos altos requisitos do processo ALD para distribuir uniformemente o fluxo de ar sobre o substrato. Ao mesmo tempo, o revestimento CVD SiC de alta pureza da Vetek Semiconductor garante pureza no processo. Bem-vindo para discutir a cooperação conosco.

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Descrição do produto

Como fabricante profissional, a Vetek Semiconductor gostaria de fornecer a você um susceptor planetário ALD revestido com SiC.

O processo ALD, conhecido como Atomic Layer Epitaxy, representa o auge da precisão na tecnologia de deposição de filmes finos. A Vetek Semiconductor, em colaboração com os principais fabricantes de sistemas ALD, foi pioneira no desenvolvimento e fabricação de susceptores planetários ALD revestidos com SiC de última geração. Esses susceptores inovadores foram meticulosamente projetados para superar as rigorosas demandas do processo ALD, garantindo a distribuição uniforme do fluxo de ar em todo o substrato com precisão e eficiência incomparáveis.

Além disso, o compromisso da Vetek Semiconductor com a excelência é sintetizado pela utilização de revestimentos CVD SiC de alta pureza, garantindo um nível de pureza crucial para o sucesso de cada ciclo de deposição. Essa dedicação à qualidade não apenas aumenta a confiabilidade do processo, mas também eleva o desempenho geral e a reprodutibilidade dos processos ALD em diversas aplicações.

Vantagens da visão geral da tecnologia ALD:

Controle preciso de espessura: obtenha espessura de filme subnanométrica com excelente repetibilidade controlando os ciclos de deposição.

Suavidade da superfície: A conformidade 3D perfeita e a cobertura de 100% dos degraus garantem revestimentos suaves que seguem completamente a curvatura do substrato.

Ampla aplicabilidade: Pode ser revestido em vários objetos, desde wafers a pós, adequado para substratos sensíveis.

Propriedades de materiais personalizáveis: Fácil personalização de propriedades de materiais para óxidos, nitretos, metais, etc.

Ampla janela de processo: Insensibilidade a variações de temperatura ou precursores, propícia à produção em lote com perfeita uniformidade de espessura de revestimento.

Convidamos você cordialmente a dialogar conosco para explorar possíveis colaborações e parcerias. Juntos, podemos desbloquear novas possibilidades e impulsionar a inovação no domínio da tecnologia de deposição de filmes finos.

Propriedades físicas básicas do revestimento CVD SiC:

Propriedades físicas básicas do revestimento CVD SiC
Propriedade	Valor típico
Estrutura de cristal	FCC fase β policristalina, orientada principalmente (111)
Densidade	3,21g/cm³
Dureza	Dureza Vickers 2500 (carga de 500g)
Tamanho de grão	2~10μm
Pureza Química	99,99995%
Capacidade de calor	640 J·kg-1·K-1
Temperatura de sublimação	2700°C
Resistência Flexural	415 MPa RT de 4 pontos
Módulo de Young	Curvatura de 430 Gpa 4pt, 1300℃
Condutividade térmica	300W·m-1·K-1
Expansão Térmica (CTE)	4,5×10-6K-1