Receptor ALD

Como profissionalReceptor ALDfabricante na China, nosso produtoReceptor ALDO controle preciso de temperatura, distribuição uniforme de gás e excelente condutividade térmica e outras características do produto determinam queReceptor ALDdesempenha um papel crucial no processo de deposição da camada atômica (ALD). Papel importante, dê boas-vindas à sua consulta.

Deposição uniforme de filme finoO :ALD Susceptor garante a deposição uniforme de camadas atômicas em toda a superfície do wafer durante o processo de deposição de camada atômica (ALD). Seu design giratório exclusivo permite que gases e reagentes entrem em contato uniformemente com a superfície do wafer, resultando em espessura uniforme do filme. Isto é crítico para a fabricação de semicondutores de alta precisão.

Melhorar a qualidade da deposição: Ao otimizar o controle de temperatura e a distribuição de gás, o ALD Susceptor melhora significativamente a qualidade e o desempenho do filme, reduzindo defeitos e não uniformidade. Isso o torna ideal para fabricação de semicondutores e dispositivos eletrônicos de alta precisão, garantindo confiabilidade e desempenho do produto.

Suporta processamento multi-wafer:Certos designs de Susceptor ALD permitem que vários wafers sejam processados ​​simultaneamente, aumentando a eficiência da produção. Isto é especialmente importante para ambientes de produção de alto rendimento, capazes de atender às necessidades de produção em larga escala.

Acomoda diferentes tamanhos e tipos de wafersOs susceptores :ALD geralmente são projetados para alta compatibilidade e podem suportar diferentes tamanhos e tipos de wafers. Isso o torna eficaz em diversos processos de produção, proporcionando maior flexibilidade e adaptabilidade.

Reduza os custos de produção:Devido à sua distribuição eficiente de gás e capacidade de aquecimento uniforme, o ALD Susceptor aumenta a eficiência do processo de deposição, reduzindo assim o desperdício de material e os custos de produção. Isto não só ajuda a melhorar a eficiência da produção, mas também reduz significativamente os custos de fabricação.

Propriedades físicas básicas do revestimento CVD SiC:

Oficinas de produção:

Visão geral da cadeia da indústria de epitaxia de chips semicondutores：