Cabeça de chuveiro SiC CVD

Você pode ter a certeza de comprar chuveiro CVD SiC de nossa fábrica. O chuveiro VeTek Semiconductor CVD SiC é feito de carboneto de silício sólido (SiC) usando técnicas avançadas de deposição química de vapor (CVD). O SiC é escolhido por sua excepcional condutividade térmica, resistência química e resistência mecânica, ideal para componentes de SiC de grande volume, como o chuveiro CVD SiC.

Desempenho e vantagens do produto:

Projetado para a fabricação de semicondutores, o chuveiro CVD SiC suporta altas temperaturas e processamento de plasma. Seu controle preciso do fluxo de gás e propriedades superiores do material garantem processos estáveis ​​e confiabilidade a longo prazo. O uso de CVD SiC melhora o gerenciamento térmico e a estabilidade química, melhorando a qualidade e o desempenho do produto semicondutor.

Atendendo às necessidades do cliente:

O chuveiro CVD SiC aumenta a eficiência do crescimento epitaxial, distribuindo os gases do processo uniformemente e protegendo a câmara contra contaminação. Ele resolve com eficácia os desafios de fabricação de semicondutores, como controle de temperatura, estabilidade química e consistência do processo, fornecendo soluções confiáveis ​​aos clientes.

Cenários de aplicação:

Utilizado em sistemas MOCVD, epitaxia de Si e epitaxia de SiC, o chuveiro CVD SiC suporta a produção de dispositivos semicondutores de alta qualidade. Seu papel crítico garante controle e estabilidade precisos do processo, atendendo a diversos requisitos dos clientes para produtos confiáveis ​​e de alto desempenho.

Parâmetro do produto do chuveiro CVD SiC:

Oficina de produção