Revestimento CVD TAC

VeTek Semiconductor é um fabricante líder, inovador e líder de revestimento CVD TAC na China. Por muitos anos, temos nos concentrado em vários produtos de revestimento CVD TAC, como cobertura de revestimento CVD TaC, anel de revestimento CVD TaC, transportador de revestimento CVD TaC, etc. A VeTek Semiconductor oferece suporte a serviços de produtos personalizados e preços de produtos satisfatórios, e aguarda com expectativa o seu futuro consulta.

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Descrição do produto

O revestimento CVD TaC (revestimento químico de carboneto de tântalo por deposição de vapor) é um produto de revestimento composto principalmente de carboneto de tântalo (TaC). O revestimento TaC possui dureza extremamente alta, resistência ao desgaste e resistência a altas temperaturas, tornando-o uma escolha ideal para proteger os principais componentes do equipamento e melhorar a confiabilidade do processo. É um material indispensável no processamento de semicondutores.

Os produtos de revestimento CVD TaC são geralmente usados em câmaras de reação, transportadores de wafer e equipamentos de gravação, e desempenham as seguintes funções principais neles.

O revestimento CVD TaC é frequentemente usado para componentes internos de câmaras de reação, como substratos, painéis de parede e elementos de aquecimento. Combinado com sua excelente resistência a altas temperaturas, ele pode resistir efetivamente à erosão de altas temperaturas, gases corrosivos e plasma, estendendo efetivamente a vida útil do equipamento e garantindo a estabilidade do processo e a pureza da produção do produto.

Além disso, os transportadores de wafer revestidos com TaC (como barcos de quartzo, acessórios, etc.) também apresentam excelente resistência ao calor e à corrosão química. O transportador de wafer pode fornecer suporte confiável para o wafer em altas temperaturas, evitar a contaminação e deformação do wafer e, assim, melhorar o rendimento geral do chip.

Além disso, o revestimento TaC da VeTek Semiconductor também é amplamente utilizado em vários equipamentos de gravação e deposição de filmes finos, como gravadores de plasma, sistemas de deposição de vapor químico, etc. Nesses sistemas de processamento, o revestimento CVD TAC pode suportar bombardeio de íons de alta energia e fortes reações químicas. , garantindo assim a precisão e repetibilidade do processo.

Quaisquer que sejam suas necessidades específicas, encontraremos a melhor solução para suas necessidades de revestimento CVD TAC e aguardamos sua consulta a qualquer momento.

Propriedades físicas básicas do revestimento CVD TAC:

Propriedades físicas do revestimento TaC
Densidade	14,3 (g/cm³)
Emissividade específica	0.3
Coeficiente de expansão térmica	6,3 10-6/K
Dureza (HK)	2.000 Hong Kong
Resistência	1×10-5 Ohm*cm
Estabilidade térmica	<2500℃
Mudanças no tamanho do grafite	-10~-20um
Espessura do revestimento	≥20um valor típico (35um±10um)