Anel revestido de TaC para reator epitaxial de SiC

VeTek Semiconductor é um fabricante e inovador de anel revestido TaC em grande escala para reator epitaxial SiC na China. Somos especializados em revestimento TaC há muitos anos. ansioso para se tornar seu parceiro de longo prazo na China.

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Descrição do produto

Introdução de produto do anel revestido de TaC para reator epitaxial de SiC

A VeTek Semiconductor é uma empresa renomada com sede na China, conhecida por sua experiência na fabricação de revestimentos de TaC e SiC de alta qualidade, bem como anel revestido de TaC de alta pureza para reator epitaxial de SiC. Temos orgulho em oferecer produtos superiores a preços competitivos. Convidamos você a entrar em contato conosco e descobrir as soluções excepcionais que oferecemos.

Nossos anéis revestidos com TaC para reatores epitaxiais de SiC desempenham um papel crucial. Esses anéis são parte integrante do nosso conjunto meia-lua, oferecendo funções essenciais como suporte de substrato, controle preciso de temperatura, isolamento térmico eficaz, ventilação eficiente e proteção confiável. Trabalhando harmoniosamente, esses anéis garantem um controle meticuloso sobre a espessura, dopagem e características de defeito da camada epitaxial de SiC cultivada dentro da câmara de reação.

Além de nossos excepcionais anéis revestidos com TaC, a VeTek Semiconductor oferece uma ampla gama de produtos relacionados projetados especificamente para câmaras de reação. Nossa linha de produtos inclui meias-luas superiores e inferiores, capas protetoras, capas de isolamento e interfaces de desvio de ar de processo. Cada um desses componentes passa por um meticuloso revestimento de SiC ou TaC para melhorar o desempenho e prolongar sua vida útil.

Parâmetro do produto do anel revestido de TaC para reator epitaxial de SiC

Propriedades físicas do revestimento TaC
Densidade	14,3 (g/cm³)
Emissividade específica	0.3
Coeficiente de expansão térmica	6,3 10-6/K
Dureza (HK)	2.000 Hong Kong
Resistência	1×10-5 Ohm*cm
Estabilidade térmica	<2500℃
Mudanças no tamanho do grafite	-10~-20um
Espessura do revestimento	≥20um valor típico (35um±10um)

Oficina de produção de semicondutores VeTek

Visão geral da cadeia da indústria de epitaxia de chips semicondutores:

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