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Deposição Física de Vapor
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Deposição Física de Vapor

A deposição física de vapor (PVD) semicondutor Vetek é uma tecnologia de processo avançada amplamente utilizada no tratamento de superfície e preparação de filmes finos. A tecnologia PVD utiliza métodos físicos para transformar diretamente materiais de sólido ou líquido em gás e formar uma película fina na superfície do substrato alvo. Esta tecnologia tem as vantagens de alta precisão, alta uniformidade e forte adesão, e é amplamente utilizada em semicondutores, dispositivos ópticos, revestimentos de ferramentas e revestimentos decorativos. Bem-vindo para discutir conosco!

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Descrição do produto

Vetek Semiconductor é um fabricante chinês que fornece materiais semicondutores avançados em processos físicos de deposição de vapor, comoCadinho revestido de SiC, cadinho de carbono vítreo,Aquecedores de grafite com revestimento SiC, cadinhos de evaporação de pistola de feixe de elétrons.


Princípios básicos do processo PVD


Os processos físicos de deposição de vapor geralmente incluem uma variedade de métodos específicos, como evaporação, pulverização catódica e revestimento iônico. Independentemente do método utilizado, o princípio básico da Deposição Física de Vapor é vaporizar o material da fonte através de aquecimento em alta temperatura ou bombardeio iônico. O material vaporizado se move na forma de átomos ou moléculas em um ambiente de vácuo ou baixa pressão e se condensa em uma película fina na superfície do substrato. Este processo é conseguido principalmente por meios físicos, evitando assim a influência de reações químicas na pureza do material.


Vantagens da tecnologia de Deposição Física de Vapor


Alta pureza e alta densidade: Os filmes depositados em PVD geralmente apresentam alta pureza e densidade, o que pode melhorar significativamente o desempenho do revestimento, como resistência ao desgaste, resistência à corrosão e dureza.

Forte adesão de filme: O processo PVD pode formar um filme com forte adesão ao substrato, garantindo que o filme não seja fácil de descascar durante o uso, prolongando a vida útil do produto.

Ampla gama de seleção de materiais: A tecnologia PVD pode ser aplicada a uma variedade de materiais, incluindo metais, cerâmicas e ligas, e pode preparar vários revestimentos funcionais, como revestimentos condutores, isolantes, resistentes ao calor e antioxidantes.

Proteção ambiental e sustentabilidade: Comparado com processos como a deposição química de vapor (CVD), o processo de Deposição Física de Vapor (PVD) é mais ecológico, não envolve a geração de gases nocivos e reduz a poluição do meio ambiente.


Aplicação da tecnologia PVD


Indústria de semicondutores: Na fabricação de semicondutores, a deposição física de vapor é frequentemente usada na preparação de eletrodos de película fina, barreiras de difusão e interconexões metálicas para garantir que os componentes tenham boa condutividade e estabilidade.



Dispositivos ópticos: A tecnologia de deposição física de vapor é amplamente utilizada em revestimentos ópticos, como revestimentos anti-reflexos para espelhos e lentes, e na fabricação de filtros ópticos para melhorar o desempenho de dispositivos ópticos.




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