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Susceptor de panqueca revestido de SiC para wafers LPE PE3061S 6''
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Susceptor de panqueca revestido de SiC para wafers LPE PE3061S 6''

VeTek Semiconductor é um fabricante e inovador líder de susceptor de panqueca revestido de SiC para wafers LPE PE3061S 6'' na China. Somos especializados em material de revestimento de SiC há muitos anos. . Este susceptor epitaxial apresenta alta resistência à corrosão, bom desempenho de condução de calor e boa uniformidade. Convidamos você a visitar nossa fábrica na China.

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Descrição do produto

Como fabricante profissional, a VeTek Semiconductor gostaria de fornecer a você um susceptor de panqueca revestido com SiC de alta qualidade para wafers LPE PE3061S 6''.

O susceptor de panqueca revestido com SiC VeTeK Semiconductor para wafers LPE PE3061S de 6" é um equipamento crítico usado em processos de fabricação de semicondutores.


Susceptor de panqueca revestido de SiC para wafers LPE PE3061S 6" Características do produto:

Estabilidade em altas temperaturas: O SiC apresenta excelente estabilidade em altas temperaturas, mantendo sua estrutura e desempenho em ambientes de alta temperatura.

Excelente condutividade térmica: o SiC possui uma condutividade térmica excepcional, permitindo uma transferência de calor rápida e uniforme para um aquecimento rápido e uniforme.

Resistência à corrosão: O SiC possui excelente estabilidade química, resistindo à corrosão e oxidação em diversos ambientes de aquecimento.

Distribuição uniforme de aquecimento: O transportador de wafer revestido com SiC fornece distribuição de aquecimento uniforme, garantindo temperatura uniforme em toda a superfície do wafer durante o aquecimento.

Adequado para produção de semicondutores: O transportador de wafer de epitaxia de Si é amplamente utilizado em processos de fabricação de semicondutores, particularmente para crescimento de epitaxia de Si e outros processos de aquecimento em alta temperatura.


Vantagens do produto:

Eficiência de produção aprimorada: O susceptor de panqueca revestido de SiC permite aquecimento rápido e uniforme, reduzindo o tempo de aquecimento e aumentando a eficiência da produção.

Qualidade do produto garantida: A distribuição uniforme do aquecimento garante consistência durante o processamento do wafer, levando a uma melhor qualidade do produto.

Vida útil prolongada do equipamento: o material SiC oferece excelente resistência ao calor e estabilidade química, contribuindo para uma vida útil mais longa do susceptor de panqueca.

Soluções personalizadas: O susceptor revestido de SiC e o transportador de wafer de epitaxia de Si podem ser adaptados para diferentes tamanhos e especificações com base nas necessidades do cliente.


SEM data and structure of CVD SIC films


Propriedades físicas básicas do revestimento CVD SiC:

Propriedades físicas básicas do revestimento CVD SiC
Propriedade Valor típico
Estrutura Cristalina FCC fase β policristalina, orientada principalmente (111)
Densidade 3,21g/cm³
Dureza Dureza Vickers 2500 (carga de 500g)
Tamanho do grão 2~10μm
Pureza Química 99,99995%
Capacidade de calor 640 J·kg-1·K-1
Temperatura de Sublimação 2700°C
Resistência à Flexão 415 MPa RT de 4 pontos
Módulo de Young Curvatura de 430 Gpa 4pt, 1300℃
Condutividade Térmica 300W·m-1·K-1
Expansão Térmica (CTE) 4,5×10-6K-1


Oficina de produção de semicondutores VeTek

VeTek Semiconductor Production Shop


Visão geral da cadeia da indústria de epitaxia de chips semicondutores:

Overview of the semiconductor chip epitaxy industry chain


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