Na VeTek Semiconductor, nos especializamos em pesquisa, desenvolvimento e industrialização de revestimento CVD SiC e revestimento CVD TaC. Um produto exemplar é o SiC Coating Cover Segments Inner, que passa por um processamento extensivo para obter uma superfície de SiC CVD altamente precisa e densamente revestida. Este revestimento demonstra excepcional resistência a altas temperaturas e fornece proteção robusta contra corrosão. Sinta-se à vontade para nos contatar para qualquer dúvida.
Segmentos internos de cobertura de revestimento SiC de alta qualidade são oferecidos pelo fabricante chinês VeTek Semicondutor. Compre segmentos de cobertura de revestimento de SiC (internos), que são de alta qualidade diretamente com preço baixo.
Os produtos VeTek Semiconductor SiC Coating Cover Segments (Inner) são componentes essenciais usados em processos avançados de fabricação de semicondutores para o sistema Aixtron MOCVD.
Aqui está uma descrição integrada destacando a aplicação e as vantagens do produto:
Nossos segmentos completos de cobertura de revestimento SiC de 14x4 polegadas (internos) oferecem os seguintes benefícios e cenários de aplicação quando usados em equipamentos Aixtron:
Ajuste perfeito: Esses segmentos de cobertura são projetados e fabricados com precisão para se ajustarem perfeitamente aos equipamentos Aixtron, garantindo desempenho estável e confiável.
Material de alta pureza: Os segmentos da tampa são feitos de materiais de alta pureza para atender aos rigorosos requisitos de pureza dos processos de fabricação de semicondutores.
Resistência a altas temperaturas: Os segmentos de cobertura apresentam excelente resistência a altas temperaturas, mantendo a estabilidade sem deformação ou danos sob condições de processo de alta temperatura.
Excelente inércia química: Com excepcional inércia química, esses segmentos de cobertura resistem à corrosão química e à oxidação, fornecendo uma camada protetora confiável e prolongando seu desempenho e vida útil.
Superfície plana e usinagem precisa: Os segmentos de cobertura apresentam uma superfície lisa e uniforme, obtida através de usinagem precisa. Isso garante excelente compatibilidade com outros componentes dos equipamentos Aixtron e proporciona ótimo desempenho do processo.
Ao incorporar nossos segmentos de cobertura interna completos de 14x4 polegadas em equipamentos Aixtron, processos de crescimento de filme fino de semicondutores de alta qualidade podem ser alcançados. Esses segmentos de cobertura desempenham um papel crucial no fornecimento de uma base estável e confiável para o crescimento de filmes finos.
Temos o compromisso de fornecer produtos de alta qualidade que se integrem perfeitamente aos equipamentos Aixtron. Quer se trate de otimização de processos ou desenvolvimento de novos produtos, estamos aqui para fornecer suporte técnico e responder a quaisquer dúvidas que você possa ter.
Propriedades físicas básicas do revestimento CVD SiC | |
Propriedade | Valor típico |
Estrutura de cristal | FCC fase β policristalina, orientada principalmente (111) |
Densidade | 3,21g/cm³ |
Dureza | Dureza Vickers 2500 (carga de 500g) |
Tamanho de grão | 2~10μm |
Pureza Química | 99,99995% |
Capacidade de calor | 640 J·kg-1·K-1 |
Temperatura de sublimação | 2700°C |
Resistência à Flexão | 415 MPa RT de 4 pontos |
Módulo de Young | Curvatura de 430 Gpa 4pt, 1300℃ |
Condutividade térmica | 300W·m-1·K-1 |
Expansão Térmica (CTE) | 4,5×10-6K-1 |