A VeTeK Semiconductor produz aquecedor MOCVD de grafite com revestimento de SiC, que é um componente chave do processo MOCVD. Com base em um substrato de grafite de alta pureza, a superfície é revestida com um revestimento de SiC de alta pureza para fornecer excelente estabilidade em altas temperaturas e resistência à corrosão. Com serviços de produtos de alta qualidade e altamente personalizados, o aquecedor MOCVD de grafite com revestimento de SiC da VeTeK Semiconductor é a escolha ideal para garantir a estabilidade do processo MOCVD e a qualidade de deposição de filmes finos. A VeTeK Semiconductor espera se tornar seu parceiro.
MOCVD é uma tecnologia de crescimento de filme fino de precisão amplamente utilizada na fabricação de dispositivos semicondutores, optoeletrônicos e microeletrônicos. Através da tecnologia MOCVD, filmes de materiais semicondutores de alta qualidade podem ser depositados em substratos (como silício, safira, carboneto de silício, etc.).
No equipamento MOCVD, o aquecedor MOCVD de grafite com revestimento de SiC fornece um ambiente de aquecimento uniforme e estável na câmara de reação de alta temperatura, permitindo que a reação química em fase gasosa prossiga, depositando assim o filme fino desejado na superfície do substrato.
O aquecedor MOCVD de grafite com revestimento de SiC da VeTek Semiconductor é feito de material de grafite de alta qualidade com revestimento de SiC. O aquecedor MOCVD de grafite revestido com SiC gera calor através do princípio de aquecimento por resistência.
O núcleo do aquecedor MOCVD de grafite com revestimento SiC é o substrato de grafite. A corrente é aplicada através de uma fonte de alimentação externa e as características de resistência do grafite são usadas para gerar calor para atingir a alta temperatura necessária. A condutividade térmica do substrato de grafite é excelente, o que pode conduzir rapidamente o calor e transferir uniformemente a temperatura para toda a superfície do aquecedor. Ao mesmo tempo, o revestimento SiC não afeta a condutividade térmica do grafite, permitindo que o aquecedor responda rapidamente às mudanças de temperatura e garanta uma distribuição uniforme da temperatura.
A grafite pura é propensa à oxidação sob condições de alta temperatura. O revestimento de SiC isola efetivamente o grafite do contato direto com o oxigênio, evitando assim reações de oxidação e prolongando a vida útil do aquecedor. Além disso, o equipamento MOCVD utiliza gases corrosivos (como amônia, hidrogênio, etc.) para deposição química de vapor. A estabilidade química do revestimento de SiC permite resistir eficazmente à erosão destes gases corrosivos e proteger o substrato de grafite.
Sob altas temperaturas, os materiais de grafite não revestidos podem liberar partículas de carbono, o que afetará a qualidade de deposição do filme. A aplicação do revestimento SiC inibe a liberação de partículas de carbono, permitindo que o processo MOCVD seja realizado em ambiente limpo, atendendo às necessidades de fabricação de semicondutores com elevados requisitos de limpeza.
Finalmente, o aquecedor MOCVD de grafite com revestimento de SiC é geralmente projetado em formato circular ou outro formato regular para garantir temperatura uniforme na superfície do substrato. A uniformidade da temperatura é crítica para o crescimento uniforme de filmes espessos, especialmente no processo de crescimento epitaxial MOCVD de compostos III-V, como GaN e InP.
A VeTeK Semiconductor fornece serviços de personalização profissional. As capacidades de usinagem e revestimento de SiC líderes do setor nos permitem fabricar aquecedores de alto nível para equipamentos MOCVD, adequados para a maioria dos equipamentos MOCVD.
Propriedades físicas básicas do revestimento CVD SiC |
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Propriedade |
Valor típico |
Estrutura Cristalina |
FCC fase β policristalina, orientada principalmente (111) |
Densidade do revestimento SiC |
3,21g/cm³ |
Dureza |
Dureza Vickers 2500 (carga de 500g) |
Tamanho do grão |
2~10μm |
Pureza Química |
99,99995% |
Capacidade de calor do revestimento SiC |
640 J·kg-1·K-1 |
Temperatura de sublimação |
2700°C |
Resistência à Flexão |
415 MPa RT de 4 pontos |
Módulo de Young |
Curvatura de 430 Gpa 4pt, 1300℃ |
Condutividade Térmica |
300W·m-1·K-1 |
Expansão Térmica (CTE) |
4,5×10-6K-1 |