Susceptor de revestimento SiC

A Vetek Semiconductor concentra-se na pesquisa, desenvolvimento e industrialização de revestimento CVD SiC e revestimento CVD TaC. Tomando o susceptor de revestimento SiC como exemplo, o produto é altamente processado com alta precisão, revestimento CVD SIC denso, resistência a altas temperaturas e forte resistência à corrosão. Uma investigação sobre nós é bem-vinda.

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Descrição do produto

Você pode ter a certeza de comprar o susceptor de revestimento SiC de nossa fábrica.

Como fabricante de revestimento CVD SiC, a VeTek Semiconductor gostaria de fornecer susceptores de revestimento SiC que são feitos de grafite de alta pureza e susceptor de revestimento SiC (abaixo de 5 ppm).

Na Vetek Semiconductor, nos especializamos em pesquisa, desenvolvimento e fabricação de tecnologia, oferecendo uma gama de produtos avançados para a indústria. Nossa principal linha de produtos inclui revestimento CVD SiC + grafite de alta pureza, susceptor de revestimento SiC, quartzo semicondutor, revestimento CVD TaC + grafite de alta pureza, feltro rígido e outros materiais.

Um de nossos principais produtos é o Susceptor de Revestimento SiC, desenvolvido com tecnologia inovadora para atender aos rigorosos requisitos de produção de wafer epitaxial. Os wafers epitaxiais devem exibir uma distribuição estreita de comprimento de onda e baixos níveis de defeitos superficiais, tornando nosso susceptor de revestimento de SiC um componente essencial para atingir esses parâmetros cruciais.

Vantagens do nosso Susceptor de Revestimento SiC:

Proteção do material base: O revestimento CVD SiC atua como uma camada protetora durante o processo epitaxial, protegendo efetivamente o material base contra erosão e danos causados pelo ambiente externo. Esta medida de proteção prolonga muito a vida útil do equipamento.

Excelente condutividade térmica: Nosso revestimento CVD SiC possui excelente condutividade térmica, transferindo eficientemente o calor do material base para a superfície do revestimento. Isto melhora a eficiência do gerenciamento térmico durante a epitaxia, garantindo temperaturas operacionais ideais para o equipamento.

Melhor qualidade do filme: O revestimento CVD SiC fornece uma superfície plana e uniforme, criando uma base ideal para o crescimento do filme. Reduz defeitos resultantes de incompatibilidade de rede, melhora a cristalinidade e a qualidade do filme epitaxial e, em última análise, melhora seu desempenho e confiabilidade.

Escolha nosso susceptor de revestimento de SiC para suas necessidades de produção de wafer epitaxial e beneficie-se de proteção aprimorada, condutividade térmica superior e melhor qualidade de filme. Confie nas soluções inovadoras da VeTek Semiconductor para impulsionar seu sucesso na indústria de semicondutores.

Propriedades físicas básicas do revestimento CVD SiC:

Propriedades físicas básicas do revestimento CVD SiC
Propriedade	Valor típico
Estrutura de cristal	FCC fase β policristalina, orientada principalmente (111)
Densidade	3,21g/cm³
Dureza	Dureza Vickers 2500 (carga de 500g)
Tamanho de grão	2~10μm
Pureza Química	99,99995%
Capacidade de calor	640 J·kg-1·K-1
Temperatura de sublimação	2700°C
Resistência à Flexão	415 MPa RT de 4 pontos
Módulo de Young	Curvatura de 430 Gpa 4pt, 1300℃
Condutividade térmica	300W·m-1·K-1
Expansão Térmica (CTE)	4,5×10-6K-1