China Revestimento de carboneto de silício Fabricante, fornecedor, fábrica

A VeTek Semiconductor é especializada na produção de produtos de revestimento de carboneto de silício ultrapuros. Esses revestimentos são projetados para serem aplicados em grafite purificado, cerâmica e componentes de metal refratário.

Nossos revestimentos de alta pureza são direcionados principalmente para uso nas indústrias de semicondutores e eletrônicos. Eles servem como uma camada protetora para transportadores de wafers, susceptores e elementos de aquecimento, protegendo-os de ambientes corrosivos e reativos encontrados em processos como MOCVD e EPI. Esses processos são essenciais para o processamento de wafers e fabricação de dispositivos. Além disso, nossos revestimentos são adequados para aplicações em fornos a vácuo e aquecimento de amostras, onde são encontrados ambientes de alto vácuo, reativos e de oxigênio.

Na VeTek Semiconductor, oferecemos uma solução abrangente com nossos recursos avançados de oficina mecânica. Isso nos permite fabricar os componentes básicos usando grafite, cerâmica ou metais refratários e aplicar os revestimentos cerâmicos SiC ou TaC internamente. Também fornecemos serviços de revestimento para peças fornecidas pelo cliente, garantindo flexibilidade para atender diversas necessidades.

Nossos produtos de revestimento de carboneto de silício são amplamente utilizados em epitaxia de Si, epitaxia de SiC, sistema MOCVD, processo RTP/RTA, processo de gravação, processo de gravação ICP/PSS, processo de vários tipos de LED, incluindo LED azul e verde, LED UV e UV profundo LED etc., que é adaptado a equipamentos LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI e assim por diante.

Peças do reator que podemos fazer:

Revestimento de carboneto de silício com várias vantagens exclusivas:

Silicon Carbide Coating several unique advantages

Parâmetro de revestimento de carboneto de silício semicondutor VeTek:

Propriedades físicas básicas do revestimento CVD SiC
Propriedade	Valor típico
Estrutura Cristalina	FCC fase β policristalina, orientada principalmente (111)
Densidade	3,21g/cm³
Dureza	Dureza Vickers 2500 (carga de 500g)
Tamanho do grão	2~10μm
Pureza Química	99,99995%
Capacidade de calor	640 J·kg-1·K-1
Temperatura de Sublimação	2700°C
Resistência Flexural	415 MPa RT de 4 pontos
Módulo de Young	Curvatura de 430 Gpa 4pt, 1300℃
Condutividade Térmica	300W·m-1·K-1
Expansão Térmica (CTE)	4,5×10-6K-1

SEM data and structure of CVD SIC films

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Suporte de barril de wafer revestido CVD SiC

O suporte de barril de wafer revestido com CVD SiC é o componente chave do forno de crescimento epitaxial, amplamente utilizado em fornos de crescimento epitaxial MOCVD. A VeTek Semiconductor fornece produtos altamente personalizados. Não importa quais sejam suas necessidades de suporte de barril de wafer revestido com CVD SiC, bem-vindo ao nos consultar.

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Susceptor de barril de revestimento CVD SiC

O susceptor de barril de revestimento CVD SiC da VeTek Semiconductor é o componente principal do forno epitaxial tipo barril. Com a ajuda do susceptor de barril de revestimento CVD SiC, a quantidade e a qualidade do crescimento epitaxial são bastante melhoradas. Barrel Susceptor, e está no nível de liderança na China e até mesmo no mundo. A VeTek Semiconductor espera estabelecer um relacionamento cooperativo próximo com você em a indústria de semicondutores.

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Susceptor de Epi Wafer de revestimento CVD SiC

VeTek Semiconductor CVD SiC wafer de revestimento Epi susceptor é um componente indispensável para o crescimento da epitaxia de SiC, oferecendo gerenciamento térmico superior, resistência química e estabilidade dimensional. Ao escolher o susceptor Epi wafer de revestimento CVD SiC da VeTek Semiconductor, você aprimora o desempenho de seus processos MOCVD, levando a produtos de maior qualidade e maior eficiência em suas operações de fabricação de semicondutores. Dê boas-vindas a suas perguntas adicionais.

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Susceptor de grafite com revestimento CVD SiC

O susceptor de grafite com revestimento CVD SiC da VeTek Semiconductor é um dos componentes importantes na indústria de semicondutores, como crescimento epitaxial e processamento de wafer. É usado em MOCVD e outros equipamentos para apoiar o processamento e manuseio de wafers e outros materiais de alta precisão. A VeTek Semiconductor possui os principais recursos de produção e fabricação de susceptor de grafite revestido com SiC e Susceptor de grafite revestido com TaC da China e aguarda sua consulta.

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Elemento de aquecimento de revestimento CVD SiC

O elemento de aquecimento do revestimento CVD SiC desempenha um papel fundamental no aquecimento de materiais em fornos PVD (deposição por evaporação). VeTek Semiconductor é um fabricante líder de elemento de aquecimento revestido com SiC CVD na China. Temos recursos avançados de revestimento CVD e podemos fornecer produtos de revestimento CVD SiC personalizados. A VeTek Semiconductor espera se tornar sua parceira em elementos de aquecimento revestidos de SiC.

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Receptor Rotativo de Grafite

O susceptor rotativo de grafite de alta pureza desempenha um papel importante no crescimento epitaxial do nitreto de gálio (processo MOCVD). VeTek Semiconductor é um fabricante e fornecedor líder de susceptor rotativo de grafite na China. Desenvolvemos muitos produtos de grafite de alta pureza baseados em materiais de grafite de alta pureza, que atendem plenamente aos requisitos da indústria de semicondutores. A VeTek Semiconductor espera se tornar sua parceira no susceptor rotativo de grafite.

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Como fabricante e fornecedor profissional de Revestimento de carboneto de silício na China, temos nossa própria fábrica. Se você precisa de serviços personalizados para atender às necessidades específicas de sua região ou deseja comprar Revestimento de carboneto de silício avançados e duráveis fabricados na China, deixe-nos uma mensagem.