O anel guia de revestimento TaC da VeTek Semiconductor é criado pela aplicação de revestimento de carboneto de tântalo em peças de grafite usando uma técnica altamente avançada chamada deposição química de vapor (CVD). Este método está bem estabelecido e oferece propriedades de revestimento excepcionais. Ao utilizar o anel guia de revestimento TaC, a vida útil dos componentes de grafite pode ser significativamente estendida, o movimento das impurezas de grafite pode ser suprimido e a qualidade do cristal único SiC e AIN pode ser mantida de forma confiável. Bem-vindo ao nos consultar.
VeTek Semiconductor é um fabricante e fornecedor profissional de anel guia de revestimento TaC na China, cadinho de revestimento TaC, porta-sementes.
O cadinho de revestimento TaC, o suporte de sementes e o anel guia de revestimento TaC em forno de cristal único SiC e AIN foram cultivados pelo método PVT.
Quando o método de transporte físico de vapor (PVT) é usado para preparar SiC, o cristal semente está na região de temperatura relativamente baixa e a matéria-prima do SiC está na região de temperatura relativamente alta (acima de 2.400 ℃). A decomposição da matéria-prima produz SiXCy (incluindo principalmente Si, SiC₂, Si₂C, etc.). O material da fase de vapor é transportado da região de alta temperatura para o cristal semente na região de baixa temperatura, e nuclea e cresce. Para formar um único cristal. Os materiais de campo térmico utilizados neste processo, como cadinho, anel guia de fluxo, suporte de cristal semente, devem ser resistentes a altas temperaturas e não poluirão as matérias-primas de SiC e os monocristais de SiC. Da mesma forma, os elementos de aquecimento no crescimento de monocristais de AlN precisam ser resistentes ao vapor de Al, à corrosão do N₂ e precisam ter uma alta temperatura eutética (e AlN) para encurtar o período de preparação do cristal.
Verificou-se que o SiC e o AlN preparados pelos materiais de campo térmico de grafite revestido com TaC eram mais limpos, quase sem carbono (oxigênio, nitrogênio) e outras impurezas, menos defeitos nas bordas, menor resistividade em cada região, e a densidade de microporos e a densidade do poço de gravação foram significativamente reduzido (após gravação com KOH) e a qualidade do cristal foi bastante melhorada. Além disso, a taxa de perda de peso do cadinho TaC é quase zero, a aparência não é destrutiva, pode ser reciclada (vida útil de até 200h) e pode melhorar a sustentabilidade e a eficiência dessa preparação de cristal único.
Propriedades físicas do revestimento TaC | |
Densidade | 14,3 (g/cm³) |
Emissividade específica | 0.3 |
Coeficiente de expansão térmica | 6,3 10-6/K |
Dureza (HK) | 2.000 Hong Kong |
Resistência | 1×10-5 Ohm*cm |
Estabilidade térmica | <2500℃ |
Mudanças no tamanho do grafite | -10~-20um |
Espessura do revestimento | ≥20um valor típico (35um±10um) |