Placa de rotação de revestimento TaC

A placa de rotação de revestimento TaC da VeTek Semiconductor possui um excelente revestimento TaC. Com seu excepcional revestimento TaC, a placa de rotação de revestimento TaC possui notável resistência a altas temperaturas e inércia química, que a diferenciam das soluções tradicionais. preços e esperamos ser seu parceiro de longo prazo na China.

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Descrição do produto

A placa de rotação de revestimento TaC da VeTek Semiconductor tem uma composição de alta pureza, um teor de impurezas inferior a 5 ppm e uma estrutura densa e uniforme, que é amplamente utilizada em sistemas LPE EPI, sistemas Aixtron, sistemas Nuflare, sistemas TEL CVD, sistemas VEECO, TSI sistemas.

Excelentes propriedades mecânicas:

Dureza do revestimento até 2300HV, com excelente resistência ao desgaste.

A adesão entre o revestimento e o substrato é forte e não é fácil cair ou descascar.

O revestimento ainda pode manter boa estabilidade estrutural em altas temperaturas.

Excelente resistência à corrosão:

O próprio material TaC possui excelente estabilidade química e resistência à corrosão.

Os revestimentos semicondutores VeTek funcionam bem em uma variedade de ambientes de gases agressivos.

Pode proteger eficazmente os componentes internos do equipamento contra danos por corrosão.

Alto acabamento superficial:

O semicondutor VeTek usa um processo de revestimento preciso para produzir o acabamento desejado.

A baixa rugosidade superficial ajuda a reduzir o acúmulo e a deposição de partículas.

A consistência do revestimento é boa:

A VeTek Semiconductor possui um sistema de controle de qualidade de som para garantir desempenho consistente entre lotes.

A espessura do revestimento é distribuída uniformemente e não há defeitos locais óbvios.

Excelente desempenho de aplicação prática:

O revestimento TaC do semicondutor VeTek é amplamente utilizado em muitos fabricantes de equipamentos epitaxiais conhecidos no país e no exterior.

Parâmetro do produto da placa de rotação revestida com TaC:

Propriedades físicas do revestimento TaC
Densidade	14,3 (g/cm³)
Emissividade específica	0.3
Coeficiente de expansão térmica	6,3 10-6/K
Dureza (HK)	2.000 Hong Kong
Resistência	1×10-5 Ohm*cm
Estabilidade térmica	<2500℃
Mudanças no tamanho do grafite	-10~-20um
Espessura do revestimento	≥20um valor típico (35um±10um)