A placa de rotação de revestimento TaC da VeTek Semiconductor possui um excelente revestimento TaC. Com seu revestimento TaC excepcional, a placa de rotação de revestimento TaC possui notável resistência a altas temperaturas e inércia química, que a diferenciam das soluções tradicionais. preços e esperamos ser seu parceiro de longo prazo na China.
A placa de rotação de revestimento TaC da VeTek Semiconductor tem uma composição de alta pureza, um teor de impurezas inferior a 5 ppm e uma estrutura densa e uniforme, que é amplamente utilizada em sistemas LPE EPI, sistemas Aixtron, sistemas Nuflare, sistemas TEL CVD, sistemas VEECO, TSI sistemas.
Excelentes propriedades mecânicas:
Dureza do revestimento até 2300HV, com excelente resistência ao desgaste.
A adesão entre o revestimento e o substrato é forte e não é fácil cair ou descascar.
O revestimento ainda pode manter boa estabilidade estrutural em altas temperaturas.
Excelente resistência à corrosão:
O próprio material TaC possui excelente estabilidade química e resistência à corrosão.
Os revestimentos semicondutores VeTek funcionam bem em uma variedade de ambientes de gases agressivos.
Pode proteger eficazmente os componentes internos do equipamento contra danos por corrosão.
Alto acabamento superficial:
O semicondutor VeTek usa um processo de revestimento preciso para produzir o acabamento desejado.
A baixa rugosidade superficial ajuda a reduzir o acúmulo e a deposição de partículas.
A consistência do revestimento é boa:
A VeTek Semiconductor possui um sistema de controle de qualidade de som para garantir desempenho consistente entre lotes.
A espessura do revestimento é distribuída uniformemente e não há defeitos locais óbvios.
Excelente desempenho de aplicação prática:
O revestimento TaC do semicondutor VeTek é amplamente utilizado em muitos fabricantes de equipamentos epitaxiais conhecidos no país e no exterior.
Propriedades físicas do revestimento TaC | |
Densidade | 14,3 (g/cm³) |
Emissividade específica | 0.3 |
Coeficiente de expansão térmica | 6,3 10-6/K |
Dureza (HK) | 2.000 Hong Kong |
Resistência | 1x10-5Ohm*cm |
Estabilidade térmica | <2500℃ |
Mudanças no tamanho do grafite | -10~-20um |
Espessura do revestimento | ≥20um valor típico (35um±10um) |