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Mandril revestido de carboneto de tântalo
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Mandril revestido de carboneto de tântalo

VeTek Semiconductor é um fabricante líder e inovador de mandril revestido de carboneto de tântalo na China. Somos especializados em revestimento TaC há muitos anos. parceiro na China.

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Descrição do produto

VeTek Semiconductor fornece mandril revestido de carboneto de tântalo de alta qualidade, peças de revestimento SiC com preço competitivo. Bem-vindo ao inquérito. Mandril revestido de carboneto de tântalo VeTek Semiconductor, projetado especificamente para o sistema AIXTRON G10 MOCVD. Este acessório aumenta a eficiência e a qualidade na fabricação de semicondutores, proporcionando excelente desempenho e confiabilidade.

Fabricado com materiais de alta qualidade e fabricado com precisão, o mandril apresenta um substrato de grafite revestido com carboneto de tântalo CVD (TaC). Este revestimento proporciona excelente estabilidade térmica, alta pureza e resistência a altas temperaturas. Garante desempenho confiável nas condições exigentes dos processos MOCVD.

O mandril é personalizável para acomodar diferentes tamanhos de wafers semicondutores, tornando-o adequado para vários requisitos de produção. Sua construção robusta minimiza o tempo de inatividade e os custos de manutenção associados aos transportadores e susceptores de wafers.

Com o mandril revestido de carboneto de tântalo VeTek Semiconductor, o sistema AIXTRON G10 MOCVD alcança maior eficiência e resultados superiores na fabricação de semicondutores. Sua excepcional estabilidade térmica, compatibilidade com diferentes tamanhos de wafer e desempenho confiável fazem dele uma ferramenta essencial para otimizar a eficiência da produção e alcançar resultados excelentes no desafiador ambiente MOCVD.


Parâmetro do produto do mandril revestido de carboneto de tântalo

Propriedades físicas do revestimento TaC
Densidade 14,3 (g/cm³)
Emissividade específica 0.3
Coeficiente de expansão térmica 6,3 10-6/K
Dureza (HK) 2.000 Hong Kong
Resistência 1×10-5 Ohm*cm
Estabilidade térmica <2500℃
Mudanças no tamanho do grafite -10~-20um
Espessura do revestimento ≥20um valor típico (35um±10um)


Desempenho do wafer após usar nossos componentes:


Oficina de produção de semicondutores VeTek


Visão geral da cadeia da indústria de epitaxia de chips semicondutores:


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