Susceptor de panqueca CVD SiC

Propriedades físicas superiores

Semicondutor VeTek O CVD SiC Pancake Susceptor é fabricado usando a mais recente tecnologia de deposição química de vapor (CVD) para garantir excelente durabilidade e adaptabilidade a temperaturas extremas. A seguir estão suas principais propriedades físicas:

● Estabilidade térmica: A alta estabilidade térmica do CVD SiC garante desempenho estável sob condições de alta temperatura.

● Baixo coeficiente de expansão térmica: O material possui coeficiente de expansão térmica extremamente baixo, o que minimiza empenamentos e deformações causadas por mudanças de temperatura.

● Resistência à corrosão química: Excelente resistência química permite manter alto desempenho em uma variedade de ambientes agressivos.

Suporte preciso e transferência de calor otimizada

O revestimento de SiC baseado em Pancake Susceptor da VeTekSemi foi projetado para acomodar wafers semicondutores e fornecer excelente suporte durante a deposição epitaxial. O SiC Pancake Susceptor foi projetado usando tecnologia avançada de simulação computacional para minimizar empenamento e deformação sob diferentes condições de temperatura e pressão. Seu coeficiente de expansão térmica típico é de cerca de 4,0 × 10 ^^-6/°C, o que significa que sua estabilidade dimensional é significativamente melhor que a dos materiais tradicionais em ambientes de alta temperatura, garantindo assim a consistência da espessura do wafer (normalmente de 200 mm a 300 mm).

Além disso, o Susceptor de Panqueca CVD é excelente em transferência de calor, com uma condutividade térmica de até 120 W/m·K. Esta alta condutividade térmica pode conduzir calor de forma rápida e eficaz, aumentar a uniformidade da temperatura dentro do forno, garantir distribuição uniforme de calor durante a deposição epitaxial e reduzir defeitos de deposição causados ​​por calor irregular. O desempenho otimizado da transferência de calor é fundamental para melhorar a qualidade da deposição, o que pode efetivamente reduzir as flutuações do processo e melhorar o rendimento.

Através dessas otimizações de design e desempenho, o CVD SiC Pancake Susceptor da VeTek Semiconductor fornece uma base sólida para a fabricação de semicondutores, garantindo confiabilidade e consistência sob condições severas de processamento e atendendo aos rigorosos requisitos da moderna indústria de semicondutores para alta precisão e qualidade.

ESTRUTURA DE CRISTAL DO FILME CVD SIC

Propriedades físicas básicas do revestimento CVD SiC

Propriedades físicas básicas do revestimento CVD SiC
Propriedade	Valor típico
Estrutura Cristalina	FCC fase β policristalina, orientada principalmente (111)
Densidade	3,21g/cm³
Dureza	Dureza Vickers 2500 (carga de 500g)
Tamanho do grão	2~10μm
Pureza Química	99,99995%
Capacidade de calor	640 J·kg-1·K-1
Temperatura de sublimação	2700°C
Resistência Flexural	415 MPa RT de 4 pontos
Módulo de Young	Curvatura de 430 Gpa 4pt, 1300℃
Condutividade Térmica	300W·m-1·K-1
Expansão Térmica (CTE)	4,5×10-6K-1