O anel de revestimento CVD TaC da VeTek Semiconductor é um componente altamente vantajoso projetado para atender aos exigentes requisitos dos processos de crescimento de cristal de carboneto de silício (SiC). O anel de revestimento CVD TaC oferece excelente resistência a altas temperaturas e inércia química, tornando-o uma escolha ideal para ambientes caracterizados por temperaturas elevadas e condições corrosivas. Estamos comprometidos em fornecer produtos de qualidade a preços competitivos e esperamos ser seu parceiro de longo prazo na China.
O anel de revestimento CVD TaC da VeTek Semiconductor é um componente crítico para o crescimento bem-sucedido de um único cristal de carboneto de silício. Com sua resistência a altas temperaturas, inércia química e desempenho superior, garante a produção de cristais de alta qualidade com resultados consistentes. Confie em nossas soluções inovadoras para elevar seus processos de crescimento de cristais de SiC pelo método PVT e alcançar resultados excepcionais.
Durante o crescimento de monocristais de carboneto de silício, o anel de revestimento CVD TaC desempenha um papel crucial na garantia de resultados ideais. Suas dimensões precisas e revestimento TaC de alta qualidade permitem distribuição uniforme de temperatura, minimizando o estresse térmico e promovendo a qualidade do cristal. A condutividade térmica superior do revestimento TaC facilita a dissipação eficiente de calor, contribuindo para melhores taxas de crescimento e melhores características do cristal. Sua construção robusta e excelente estabilidade térmica garantem desempenho confiável e vida útil prolongada, reduzindo a necessidade de substituições frequentes e minimizando o tempo de inatividade da produção.
A inércia química do anel de revestimento CVD TaC é essencial na prevenção de reações indesejadas e contaminação durante o processo de crescimento do cristal de SiC. Fornece uma barreira protetora, mantendo a integridade do cristal e minimizando impurezas. Isso contribui para a produção de monocristais de alta qualidade e sem defeitos, com excelentes propriedades elétricas e ópticas.
Além de seu desempenho excepcional, o anel de revestimento CVD TaC foi projetado para fácil instalação e manutenção. Sua compatibilidade com equipamentos existentes e integração perfeita garantem uma operação simplificada e maior produtividade.
Conte com a VeTek Semiconductor e nosso anel de revestimento CVD TaC para desempenho confiável e eficiente, posicionando você na vanguarda da tecnologia de crescimento de cristal SiC.
Propriedades físicas do revestimento TaC | |
Densidade | 14,3 (g/cm³) |
Emissividade específica | 0.3 |
Coeficiente de expansão térmica | 6,3 10-6/K |
Dureza (HK) | 2.000 Hong Kong |
Resistência | 1×10-5 Ohm*cm |
Estabilidade térmica | <2500℃ |
Mudanças no tamanho do grafite | -10~-20um |
Espessura do revestimento | ≥20um valor típico (35um±10um) |