Grafite porosa com revestimento TaC
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Grafite porosa com revestimento TaC

Grafite Porosa com Revestimento TaC é um material avançado de processamento de semicondutores fornecido pela VeTek Semiconductor. A grafite porosa com revestimento TaC combina as vantagens da grafite porosa e do revestimento de carboneto de tântalo (TaC), com boa condutividade térmica e permeabilidade a gases. A VeTek Semiconductor está comprometida em fornecer produtos de qualidade a preços competitivos e esperamos ser seu parceiro de longo prazo na China.

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Descrição do produto

VeTek Semiconductor é um fabricante e fornecedor na China que produz principalmente grafite porosa com revestimento TaC com muitos anos de experiência. Espero construir relacionamento comercial com você.

VeTek Semiconductor Porous Graphite com TaC Coated material é um revolucionário material de fabricação de semicondutores que combina perfeitamente grafite poroso com revestimento de carboneto de tântalo (TaC). Este material de grafite poroso com revestimento de TaC possui excelente permeabilidade e alta porosidade, com porosidade máxima de 75%, estabelecendo um recorde internacional da indústria. O revestimento TaC de alta pureza não apenas aumenta a resistência à corrosão e ao desgaste da grafite porosa, mas também fornece uma camada adicional de proteção, resolvendo com eficácia desafios como processamento e corrosão.

O uso de grafite porosa revestida com TaC pode melhorar significativamente a eficiência e a qualidade do processo de fabricação de semicondutores. Sua excelente permeabilidade garante a estabilidade do material sob condições de alta temperatura e controla efetivamente o aumento de impurezas de carbono. Ao mesmo tempo, o design de alta porosidade proporciona melhor desempenho de difusão de gás para ajudar a manter um ambiente de crescimento puro.

Temos o compromisso de fornecer aos clientes excelentes materiais de grafite porosa com revestimento TaC para atender às necessidades da indústria de fabricação de semicondutores. Seja em laboratórios de pesquisa ou na produção industrial, este material avançado pode ajudá-lo a obter excelente desempenho e confiabilidade. Contate-nos hoje para saber mais sobre este material revolucionário e iniciar sua jornada de inovação para impulsionar a fabricação de semicondutores.


Método PVT SiC Crystal Growth


Parâmetro do produto da Grafite Porosa com Revestimento TaC

Propriedades físicas do revestimento TaC
Densidade 14,3 (g/cm³)
Emissividade específica 0.3
Coeficiente de expansão térmica 6,3 10-6/K
Dureza (HK) 2.000 Hong Kong
Resistência 1×10-5 Ohm*cm
Estabilidade térmica <2500℃
Mudanças no tamanho do grafite -10~-20um
Espessura do revestimento ≥20um valor típico (35um±10um)


Oficina de produção de semicondutores VeTek


Visão geral da cadeia da indústria de epitaxia de chips semicondutores:


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