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Susceptor de grafite epitaxial GaN para G5
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Susceptor de grafite epitaxial GaN para G5

VeTek Semiconductor é um fabricante e fornecedor profissional, dedicado a fornecer susceptor de grafite epitaxial GaN de alta qualidade para G5. estabelecemos parcerias estáveis ​​e de longo prazo com inúmeras empresas conhecidas no país e no exterior, conquistando a confiança e o respeito de nossos clientes.

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Descrição do produto

VeTek Semiconductor é um fabricante e fornecedor profissional de susceptor de grafite epitaxial de GaN na China para G5. O susceptor de grafite epitaxial GaN para G5 é um componente crítico usado no sistema de deposição de vapor químico metal-orgânico (MOCVD) Aixtron G5 para o crescimento de filmes finos de nitreto de gálio (GaN) de alta qualidade, desempenha um papel crucial na garantia de temperatura uniforme distribuição, transferência de calor eficiente e contaminação mínima durante o processo de crescimento.


Principais características do susceptor de grafite epitaxial VeTek Semiconductor GaN para G5:

-Alta pureza: O susceptor é feito de grafite altamente pura com revestimento CVD, minimizando a contaminação dos filmes de GaN em crescimento.

-Excelente condutividade térmica: A alta condutividade térmica do grafite (150-300 W/(m·K)) garante distribuição uniforme de temperatura em todo o susceptor, levando ao crescimento consistente do filme GaN.

-Baixa expansão térmica: O baixo coeficiente de expansão térmica do susceptor minimiza o estresse térmico e as rachaduras durante o processo de crescimento em alta temperatura.

-Inércia química: A grafite é quimicamente inerte e não reage com os precursores de GaN, evitando impurezas indesejadas nos filmes cultivados.

-Compatibilidade com Aixtron G5: O susceptor foi projetado especificamente para uso no sistema Aixtron G5 MOCVD, garantindo ajuste e funcionalidade adequados.


Formulários:

LEDs de alto brilho: Os LEDs baseados em GaN oferecem alta eficiência e longa vida útil, tornando-os ideais para iluminação geral, iluminação automotiva e aplicações de exibição.

Transistores de alta potência: Os transistores GaN oferecem desempenho superior em termos de densidade de potência, eficiência e velocidade de comutação, tornando-os adequados para aplicações de eletrônica de potência.

Diodos laser: Os diodos laser baseados em GaN oferecem alta eficiência e comprimentos de onda curtos, tornando-os ideais para armazenamento óptico e aplicações de comunicação.


Parâmetro do produto do susceptor de grafite epitaxial GaN para G5

Propriedades físicas da grafite isostática
Propriedade Unidade Valor típico
Densidade aparente g/cm³ 1.83
Dureza HD 58
Resistividade elétrica mΩ.m 10
Resistência à Flexão MPa 47
Força compressiva MPa 103
Resistência à tracção MPa 31
Módulo de Young GPa 11.8
Expansão Térmica (CTE) 10-6K-1 4.6
Condutividade térmica W·m-1·K-1 130
Tamanho Médio de Grão μm 8-10
Porosidade % 10
Conteúdo de cinzas ppm ≤10 (depois de purificado)

Nota: Antes do revestimento, faremos a primeira purificação, após o revestimento, faremos a segunda purificação.


Propriedades físicas básicas do revestimento CVD SiC
Propriedade Valor típico
Estrutura de cristal FCC fase β policristalina, orientada principalmente (111)
Densidade 3,21g/cm³
Dureza Dureza Vickers 2500 (carga de 500g)
Tamanho de grão 2~10μm
Pureza Química 99,99995%
Capacidade de calor 640 J·kg-1·K-1
Temperatura de sublimação 2700°C
Resistência à Flexão 415 MPa RT de 4 pontos
Módulo de Young Curvatura de 430 Gpa 4pt, 1300℃
Condutividade térmica 300W·m-1·K-1
Expansão Térmica (CTE) 4,5×10-6K-1


Oficina de produção de semicondutores VeTek


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