Anel de pré-aquecimento

VeTek Semiconductor é um fabricante inovador de revestimento de SiC na China. O anel de pré-aquecimento fornecido pela VeTek Semiconductor é projetado para o processo Epitaxy. O revestimento uniforme de carboneto de silício e o material de grafite de alta qualidade como matéria-prima garantem uma deposição consistente e melhoram a qualidade e uniformidade da camada epitaxial.

Enviar consulta

Descrição do produto

O Anel de Pré-Aquecimento é um equipamento chave projetado especificamente para o processo epitaxial (EPI) na fabricação de semicondutores. É utilizado para pré-aquecer wafers antes do processo EPI, garantindo estabilidade de temperatura e uniformidade durante todo o crescimento epitaxial.

Fabricado pela VeTek Semiconductor, nosso anel de pré-aquecimento EPI oferece vários recursos e vantagens notáveis. Em primeiro lugar, é construído com materiais de alta condutividade térmica, permitindo uma transferência de calor rápida e uniforme para a superfície do wafer. Isto evita a formação de pontos quentes e gradientes de temperatura, garantindo uma deposição consistente e melhorando a qualidade e uniformidade da camada epitaxial.

Além disso, nosso anel de pré-aquecimento EPI está equipado com um sistema avançado de controle de temperatura, permitindo um controle preciso e consistente da temperatura de pré-aquecimento. Este nível de controle aumenta a precisão e a repetibilidade de etapas cruciais, como crescimento de cristais, deposição de material e reações de interface durante o processo EPI.

Durabilidade e confiabilidade são aspectos essenciais do design de nossos produtos. O anel de pré-aquecimento EPI foi construído para suportar altas temperaturas e pressões operacionais, mantendo a estabilidade e o desempenho por longos períodos. Essa abordagem de projeto reduz os custos de manutenção e substituição, garantindo confiabilidade e eficiência operacional a longo prazo.

A instalação e operação do anel de pré-aquecimento EPI são simples, pois é compatível com equipamentos EPI comuns. Ele apresenta um mecanismo de colocação e recuperação de wafer de fácil utilização, aumentando a conveniência e a eficiência operacional.

Na VeTek Semiconductor, também oferecemos serviços de customização para atender às necessidades específicas do cliente. Isso inclui adaptar o tamanho, o formato e a faixa de temperatura do anel de pré-aquecimento EPI para alinhá-lo às necessidades exclusivas de produção.

Para pesquisadores e fabricantes envolvidos no crescimento epitaxial e na produção de dispositivos semicondutores, o anel de pré-aquecimento EPI da VeTek Semiconductor oferece desempenho excepcional e suporte confiável. Ele serve como uma ferramenta crítica para alcançar crescimento epitaxial de alta qualidade e facilitar processos eficientes de fabricação de dispositivos semicondutores.

Propriedades físicas básicas do revestimento CVD SiC:

Propriedades físicas básicas do revestimento CVD SiC
Propriedade	Valor típico
Estrutura de cristal	FCC fase β policristalina, orientada principalmente (111)
Densidade	3,21g/cm³
Dureza	Dureza Vickers 2500 (carga de 500g)
Tamanho de grão	2~10μm
Pureza Química	99,99995%
Capacidade de calor	640 J·kg-1·K-1
Temperatura de sublimação	2700°C
Resistência à Flexão	415 MPa RT de 4 pontos
Módulo de Young	Curvatura de 430 Gpa 4pt, 1300℃
Condutividade térmica	300W·m-1·K-1
Expansão Térmica (CTE)	4,5×10-6K-1