- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
Produtos
VeTek é um fabricante e fornecedor profissional na China. Nossa fábrica fornece fibra de carbono, cerâmica de carboneto de silício, epitaxia de carboneto de silício, etc. Se você estiver interessado em nossos produtos, pode perguntar agora e entraremos em contato com você imediatamente.
- View as
Transportador de wafer de revestimento CVD TaC
Como fabricante e fábrica profissional de produto transportador de wafer de revestimento CVD TaC na China, o transportador de wafer de revestimento CVD TaC VeTek Semiconductor é uma ferramenta de transporte de wafer especialmente projetada para ambientes corrosivos e de alta temperatura na fabricação de semicondutores. e CVD TaC Coating Wafer Carrier possui alta resistência mecânica, excelente resistência à corrosão e estabilidade térmica, fornecendo a garantia necessária para a fabricação de dispositivos semicondutores de alta qualidade. Suas perguntas adicionais são bem-vindas.
consulte Mais informaçãoEnviar consulta
Porta-wafer Epi
VeTek Semiconductor é um fabricante e fábrica profissional de Suporte para Epi Wafer na China. Epi Wafer Holder é um suporte de wafer para o processo de epitaxia no processamento de semicondutores. É uma ferramenta fundamental para estabilizar o wafer e garantir o crescimento uniforme da camada epitaxial. É amplamente utilizado em equipamentos de epitaxia, como MOCVD e LPCVD. É um dispositivo insubstituível no processo de epitaxia. Bem-vindo a sua consulta adicional.
consulte Mais informaçãoEnviar consulta
Porta-wafers Satélite Aixtron
Como fabricante profissional e inovador de produtos Aixtron Satellite Wafer Carrier na China, o Aixtron Satellite Wafer Carrier da VeTek Semiconductor é um transportador de wafer usado em equipamentos AIXTRON, usado principalmente em processos MOCVD no processamento de semicondutores, e é particularmente adequado para alta temperatura e alta precisão processos de processamento de semicondutores. O transportador pode fornecer suporte estável de wafer e deposição uniforme de filme durante o crescimento epitaxial do MOCVD, o que é essencial para o processo de deposição de camadas. Bem-vindo a sua consulta adicional.
consulte Mais informaçãoEnviar consulta
Reator LPE Halfmoon SiC EPI
VeTek Semiconductor é um fabricante profissional de produtos LPE Halfmoon SiC EPI Reactor, inovador e líder na China. O reator LPE Halfmoon SiC EPI é um dispositivo projetado especificamente para a produção de camadas epitaxiais de carboneto de silício (SiC) de alta qualidade, usadas principalmente na indústria de semicondutores. A VeTek Semiconductor está comprometida em fornecer tecnologia de ponta e soluções de produtos para a indústria de semicondutores e agradece suas dúvidas.
consulte Mais informaçãoEnviar consulta
Aquecedor de revestimento TaC
VeTek Semiconductor é um fabricante líder e inovador de aquecedor de revestimento TaC na China. Este produto tem um ponto de fusão extremamente elevado (cerca de 3880°C). O alto ponto de fusão do aquecedor de revestimento TaC permite que ele opere em temperaturas extremamente altas, especialmente no crescimento de camadas epitaxiais de nitreto de gálio (GaN) no processo de deposição de vapor químico orgânico metálico (MOCVD). A VeTek Semiconductor está comprometida em fornecer tecnologia avançada e soluções de produtos para a indústria de semicondutores. Esperamos nos tornar seu parceiro de longo prazo na China.
consulte Mais informaçãoEnviar consulta
Deposição Física de Vapor
A deposição física de vapor (PVD) semicondutor Vetek é uma tecnologia de processo avançada amplamente utilizada no tratamento de superfície e preparação de filmes finos. A tecnologia PVD utiliza métodos físicos para transformar diretamente materiais de sólido ou líquido em gás e formar uma película fina na superfície do substrato alvo. Esta tecnologia tem as vantagens de alta precisão, alta uniformidade e forte adesão, e é amplamente utilizada em semicondutores, dispositivos ópticos, revestimentos de ferramentas e revestimentos decorativos. Bem-vindo para discutir conosco!
consulte Mais informaçãoEnviar consulta
