Pá cantilever SiC de alta pureza

VeTek Semiconductor é um fabricante líder e inovador de remo cantilever SiC de alta pureza na China. As pás cantilever de SiC de alta pureza são comumente usadas em fornos de difusão de semicondutores como transferência de wafer ou plataformas de carregamento. A VeTek Semiconductor está comprometida em fornecer tecnologia avançada e soluções de produtos para a indústria de semicondutores. Estamos ansiosos para nos tornarmos seu parceiro de longo prazo na China.

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Descrição do produto

A pá cantilever SiC de alta pureza é um componente chave usado em equipamentos de processamento de semicondutores. O produto é feito de material de carboneto de silício (SiC) de alta pureza. Combinado com suas excelentes características de alta pureza, alta estabilidade térmica e resistência à corrosão, é amplamente utilizado em processos como transferência de wafer, suporte e processamento em alta temperatura, fornecendo garantia confiável para garantir a precisão do processo e a qualidade do produto.

Geralmente, o remo cantilever SiC de alta pureza desempenha as seguintes funções específicas no processo de processamento de semicondutores:

Transferência de wafer: A pá cantilever SiC de alta pureza é geralmente usada como um dispositivo de transferência de wafer em fornos de difusão ou oxidação de alta temperatura. Sua alta dureza o torna resistente ao desgaste e não é fácil de deformar durante o uso prolongado, e pode garantir que o wafer permaneça posicionado com precisão durante o processo de transferência. Combinado com sua alta temperatura e resistência à corrosão, ele pode transferir wafers com segurança para dentro e para fora do tubo do forno em ambientes de alta temperatura sem causar qualquer contaminação ou dano aos wafers.

Suporte para wafer: O material SiC possui baixo coeficiente de expansão térmica, o que significa que seu tamanho muda menos com a mudança de temperatura, o que ajuda a manter um controle preciso no processo. Nos processos de deposição química de vapor (CVD) ou de deposição física de vapor (PVD), o SiC Cantilever Paddle é usado para apoiar e fixar o wafer para garantir que o wafer permaneça estável e plano durante o processo de deposição, melhorando assim a uniformidade e a qualidade do filme .

Aplicação de processos de alta temperatura: O SiC Cantilever Paddle possui excelente estabilidade térmica e pode suportar temperaturas de até 1600°C. Portanto, este produto é amplamente utilizado em recozimento, oxidação, difusão e outros processos em alta temperatura.

Propriedades físicas básicas da pá cantilever SiC de alta pureza: