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Barco de wafer de carboneto de silício
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Barco de wafer de carboneto de silício

O barco wafer de carboneto de silício de alta pureza da VeTek Semiconductor é feito de material de carboneto de silício extremamente puro com excelente estabilidade térmica, resistência mecânica e resistência química. O barco wafer de carboneto de silício de alta pureza é usado em aplicações de zona quente na fabricação de semicondutores, especialmente em ambientes de alta temperatura, e desempenha um papel importante na proteção de wafers, transporte de materiais e manutenção de processos estáveis. A VeTek Semiconductor continuará a trabalhar duro para inovar e melhorar o desempenho do barco wafer de carboneto de silício de alta pureza para atender às necessidades crescentes da fabricação de semicondutores. Estamos ansiosos para nos tornarmos seu parceiro de longo prazo na China.

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Descrição do produto

Como fabricante profissional, a VeTek Semiconductor gostaria de fornecer um barco wafer de carboneto de silício de alta qualidade.

Excelente desempenho térmico: O barco wafer de carboneto de silício de alta pureza da VeTek Semiconductor tem excelente desempenho térmico, é estável em ambientes de alta temperatura e possui excelente condutividade térmica, permitindo que operem em temperaturas muito acima da ambiente. Isso torna o barco wafer de carboneto de silício de alta pureza ideal para aplicações de resistência de alta potência e alta temperatura.

Excelente resistência à corrosão: O barco wafer de carboneto de silício de alta pureza é uma ferramenta fundamental para a fabricação de semicondutores e possui forte resistência a vários agentes corrosivos. Como transportador confiável, ele pode suportar os efeitos de alta temperatura e corrosão em um ambiente químico, garantindo o processamento seguro e eficaz de wafers de carboneto de silício. Como transportador confiável, ele pode suportar os efeitos de alta temperatura e corrosão em um ambiente químico, garantindo o processamento seguro e eficaz de wafers de carboneto de silício.

Integridade dimensional: O barco wafer de carboneto de silício de alta pureza não encolhe durante o processo de sinterização, mantendo a integridade dimensional e eliminando tensões residuais que podem causar deformações ou rachaduras nas peças. Isso permite a fabricação de peças de formatos complexos com dimensões precisas. Seja na fabricação de dispositivos semicondutores ou em outros campos industriais, o barco wafer de carboneto de silício de alta pureza fornece controle dimensional confiável para garantir que as peças atendam às especificações.

Como uma ferramenta versátil, o barco wafer de carboneto de silício de alta pureza da VeTek Semiconductor pode ser aplicado a uma variedade de tecnologias de fabricação de semicondutores, incluindo crescimento epitaxial e deposição de vapor químico. Seu design durável e natureza não reativa tornam o barco wafer de carboneto de silício de alta pureza adequado para uma variedade de produtos químicos de processamento, garantindo que ele possa se adaptar suavemente a diferentes ambientes de processamento.

Na fabricação de semicondutores, o crescimento epitaxial e a deposição química de vapor são etapas comuns do processo usadas para cultivar wafers e filmes finos de alta qualidade. O barco SiC de alta pureza desempenha um papel importante como transportador, que pode suportar a influência de altas temperaturas e produtos químicos para garantir processos precisos de crescimento e deposição.

Além de seu design durável, o barco SiC de alta pureza também não é reativo. Isto significa que não reagirá adversamente com produtos químicos de processamento, mantendo assim a integridade e o desempenho do barco. Isto fornece aos fabricantes de semicondutores uma ferramenta confiável para garantir consistência e repetibilidade no processo de produção.


Propriedades físicas do carboneto de silício recristalizado

Propriedades físicas do carboneto de silício recristalizado
Propriedade Valor típico
Temperatura de trabalho (°C) 1600°C (com oxigênio), 1700°C (redução do ambiente)
Conteúdo SiC > 99,96%
Conteúdo Si grátis <0,1%
Densidade aparente 2,60-2,70g/cm3
Porosidade aparente <16%
Força de compressão > 600MPa
Resistência à flexão a frio 80-90MPa (20°C)
Resistência à flexão a quente 90-100MPa (1400°C)
Expansão térmica @1500°C 4,70 10-6/°C
Condutividade térmica @1200°C 23  W/m·K
Módulo elástico 240 GPa
Resistência ao choque térmico Extremamente bom


Oficina de produção de semicondutores VeTek


Visão geral da cadeia da indústria de epitaxia de chips semicondutores:


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