Remo Cantilever SiC

O SiC Cantilever Paddle da VeTek Semiconductor é um produto de altíssimo desempenho. Nossa pá cantilever SiC é normalmente usada em fornos de tratamento térmico para manuseio e suporte de wafers de silício, deposição química de vapor (CVD) e outros processos de processamento em processos de fabricação de semicondutores. A estabilidade em altas temperaturas e a alta condutividade térmica do material SiC garantem alta eficiência e confiabilidade no processo de processamento de semicondutores. Estamos comprometidos em fornecer produtos de alta qualidade a preços competitivos e esperamos nos tornar seu parceiro de longo prazo na China.

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Descrição do produto

Você é bem-vindo em nossa fábrica Vetek Semiconductor para comprar o que há de mais recente em vendas, preço baixo e alta qualidade. Estamos ansiosos para colaborar com você.

Recursos do remo cantilever SiC da VeTek Semiconductor:

Estabilidade em altas temperaturas: Capaz de manter sua forma e estrutura em altas temperaturas, adequada para processos de processamento em altas temperaturas.

Resistência à corrosão: Excelente resistência à corrosão a uma variedade de produtos químicos e gases.

Alta resistência e rigidez: Fornece suporte confiável para evitar deformações e danos.

Vantagens do remo cantilever SiC da VeTek Semiconductor:

Alta precisão: Alta precisão de processamento garante operação estável em equipamentos automatizados.

Baixa contaminação: O material SiC de alta pureza reduz o risco de contaminação, o que é especialmente importante para ambientes de fabricação ultralimpos.

Altas propriedades mecânicas: Capaz de suportar ambientes de trabalho severos com altas temperaturas e altas pressões.

Aplicações específicas do SiC Cantilever Paddle e seu princípio de aplicação

Manuseio de wafer de silício na fabricação de semicondutores:

SiC Cantilever Paddle é usado principalmente para manusear e suportar wafers de silício durante a fabricação de semicondutores. Esses processos geralmente incluem limpeza, ataque químico, revestimento e tratamento térmico. Princípio de aplicação:

Manuseio de wafer de silício: O SiC Cantilever Paddle foi projetado para fixar e mover wafers de silício com segurança. Durante processos de tratamento químico e de alta temperatura, a alta dureza e resistência do material SiC garantem que a pastilha de silício não seja danificada ou deformada.

Processo de Deposição Química de Vapor (CVD):

No processo CVD, o SiC Cantilever Paddle é usado para transportar pastilhas de silício para que filmes finos possam ser depositados em suas superfícies. Princípio de aplicação:

No processo CVD, o SiC Cantilever Paddle é usado para fixar o wafer de silício na câmara de reação, e o precursor gasoso se decompõe em alta temperatura e forma uma película fina na superfície do wafer de silício. A resistência à corrosão química do material SiC garante uma operação estável sob alta temperatura e ambiente químico.

Parâmetro do produto do SiC Cantilever Paddle

Propriedades físicas do carboneto de silício recristalizado
Propriedade	Valor típico
Temperatura de trabalho (°C)	1600°C (com oxigênio), 1700°C (redução do ambiente)
Conteúdo SiC	> 99,96%
Conteúdo Si grátis	<0,1%
Densidade aparente	2,60-2,70g/cm3
Porosidade aparente	<16%
Força de compressão	> 600MPa
Resistência à flexão a frio	80-90MPa (20°C)
Resistência à flexão a quente	90-100MPa (1400°C)
Expansão térmica @1500°C	4,70 10-6/°C
Condutividade térmica @1200°C	23 W/m·K
Módulo elástico	240 GPa
Resistência ao choque térmico	Extremamente bom