Tubo de forno de difusão SiC

Diagrama esquemático de trabalho do tubo do forno de difusão de SiC

O tubo do forno de difusão VeTek Semiconductor SiC tem as seguintes vantagens do produto:

Excelentes propriedades mecânicas de alta temperatura: O tubo do forno de difusão de SiC tem as melhores propriedades mecânicas de alta temperatura de qualquer material cerâmico conhecido, incluindo excelente resistência e resistência à fluência. Isto o torna particularmente adequado para aplicações que exigem estabilidade de longo prazo em altas temperaturas.

Excelente resistência à oxidação: O tubo do forno de difusão SiC da VeTek Semiconductor tem excelente resistência à oxidação, a melhor de todas as cerâmicas sem óxido. Esta propriedade garante estabilidade e desempenho a longo prazo em ambientes de alta temperatura, reduzindo o risco de degradação e prolongando a vida útil do tubo.

● Alta resistência à flexão: O tubo do forno de difusão VeTekSemi SiC tem uma resistência à flexão de mais de 200MPa, garantindo excelentes propriedades mecânicas e integridade estrutural sob as condições de alta tensão típicas dos processos de fabricação de semicondutores.

● Excelente resistência à corrosãoe: A inércia química do tubo do forno de SiC oferece excelente resistência à corrosão, tornando esses tubos ideais para uso em ambientes químicos agressivos frequentemente encontrados no processamento de semicondutores.

● Alta resistência ao desgaste: Os fornos tubulares de SiC possuem forte resistência ao desgaste, o que é essencial para manter a estabilidade dimensional e reduzir os requisitos de manutenção quando usados ​​por longos períodos de tempo em condições abrasivas.

● Com revestimento CVD: O revestimento sic de deposição química de vapor (CVD) semicondutor VeTek tem um nível de pureza superior a 99,9995%, teor de impurezas inferior a 5 ppm e impurezas metálicas prejudiciais inferiores a 1 ppm. O processo de revestimento CVD garante que o tubo atenda aos rigorosos requisitos de estanqueidade a vácuo de 2-3Torr, o que é crítico para ambientes de fabricação de semicondutores de alta precisão.

● Aplicação em fornos de difusão: Esses tubos sic são projetados para fornos de difusão de semicondutores, onde desempenham um papel fundamental em processos de alta temperatura, como dopagem e oxidação. Suas propriedades avançadas de materiais garantem que eles possam suportar as condições adversas desses processos, melhorando assim a eficiência e a confiabilidade da produção de semicondutores.

A VeTek Semiconductor está há muito comprometida em fornecer tecnologia avançada e soluções de produtos para a indústria de semicondutores e oferece suporte a serviços profissionais personalizados. Escolhendo o tubo do forno de difusão SiC da VeTek Semiconductor, você obterá um produto com excelente desempenho e alta confiabilidade para atender às diversas necessidades da fabricação moderna de semicondutores. Esperamos sinceramente ser seu parceiro de longo prazo na China.

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