O pedestal de silício semicondutor VeTek é um componente chave nos processos de difusão e oxidação de semicondutores. Como uma plataforma dedicada para transportar barcos de silício em fornos de alta temperatura, o pedestal de silício tem muitas vantagens exclusivas, incluindo melhor uniformidade de temperatura, qualidade otimizada de wafer e desempenho aprimorado de dispositivos semicondutores. Para mais informações sobre o produto, não hesite em contactar-nos.
O susceptor de silício VeTek Semiconductor é um produto de silício puro projetado para garantir a estabilidade da temperatura no tubo do reator térmico durante o processamento do wafer de silício, melhorando assim a eficiência do isolamento térmico. O processamento do wafer de silício é um processo extremamente preciso e a temperatura desempenha um papel crucial, afetando diretamente a espessura e a uniformidade do filme do wafer de silício.
O pedestal de silício está localizado na parte inferior do tubo do reator térmico do forno, suportando o silícioportador de waferao mesmo tempo que fornece isolamento térmico eficaz. No final do processo, ele esfria gradualmente até a temperatura ambiente junto com o suporte do wafer de silício.
Fornece suporte estável para garantir a precisão do processo
O pedestal de silício fornece uma plataforma de suporte estável e altamente resistente ao calor para o barco de silício na câmara do forno de alta temperatura. Esta estabilidade pode efetivamente impedir que o barco de silício se desloque ou incline durante o processamento, evitando assim afetar a uniformidade do fluxo de ar ou destruir a distribuição de temperatura, garantindo alta precisão e consistência do processo.
Melhore a uniformidade da temperatura no forno e melhore a qualidade do wafer
Ao isolar o barco de silício do contato direto com o fundo ou parede do forno, a base de silício pode reduzir a perda de calor causada pela condução, conseguindo assim uma distribuição de temperatura mais uniforme no tubo de reação térmica. Este ambiente térmico uniforme é essencial para alcançar a uniformidade da difusão do wafer e da camada de óxido, melhorando significativamente a qualidade geral do wafer.
Otimize o desempenho do isolamento térmico e reduza o consumo de energia
As excelentes propriedades de isolamento térmico do material à base de silício ajudam a reduzir a perda de calor na câmara do forno, melhorando significativamente a eficiência energética do processo. Este eficiente mecanismo de gestão térmica não só acelera o ciclo de aquecimento e arrefecimento, mas também reduz o consumo de energia e os custos operacionais, proporcionando uma solução mais económica para a fabricação de semicondutores.
Estrutura do Produto |
Integrado, Soldagem |
Tipo condutivo/dopagem |
Personalizado |
Resistividade |
Baixa resistência (EG<0,015,<0,02...). ; |
Resistência Moderada (EG1-4); |
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Alta Resistência (EG 60-90); |
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Personalização do cliente |
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Tipo de material |
Policristal/Cristal Único |
Orientação Cristalina |
Personalizado |