O cilindro de grafite CVD SiC da Vetek Semiconductor é fundamental em equipamentos semicondutores, servindo como um escudo protetor dentro de reatores para proteger componentes internos em configurações de alta temperatura e pressão. Ele protege eficazmente contra produtos químicos e calor extremo, preservando a integridade do equipamento. Com excepcional resistência ao desgaste e à corrosão, garante longevidade e estabilidade em ambientes desafiadores. A utilização dessas coberturas melhora o desempenho do dispositivo semicondutor, prolonga a vida útil e mitiga os requisitos de manutenção e riscos de danos.
O cilindro de grafite CVD SiC da Vetek Semiconductor desempenha um papel importante em equipamentos semicondutores. Geralmente é usado como uma cobertura protetora dentro do reator para fornecer proteção aos componentes internos do reator em ambientes de alta temperatura e alta pressão. Esta capa protetora pode isolar eficazmente os produtos químicos e as altas temperaturas no reator, evitando que causem danos ao equipamento. Ao mesmo tempo, o Cilindro de Grafite CVD SiC também possui excelente resistência ao desgaste e à corrosão, tornando-o capaz de manter a estabilidade e durabilidade a longo prazo em ambientes de trabalho agressivos. Ao utilizar capas protetoras feitas deste material, o desempenho e a confiabilidade dos dispositivos semicondutores podem ser melhorados, prolongando a vida útil do dispositivo e reduzindo as necessidades de manutenção e o risco de danos.
O cilindro de grafite CVD SiC tem uma ampla gama de aplicações em equipamentos semicondutores, incluindo, mas não se limitando aos seguintes aspectos:
Equipamento de tratamento térmico: O cilindro de grafite CVD SiC pode ser usado como capa protetora ou escudo térmico em equipamentos de tratamento térmico para proteger os componentes internos de altas temperaturas, proporcionando excelente resistência a altas temperaturas.
Reator de deposição de vapor químico (CVD): No reator CVD, o cilindro de grafite CVD SiC pode ser usado como uma cobertura protetora para a câmara de reação química, isolando efetivamente a substância de reação e fornecendo resistência à corrosão.
Aplicações em ambientes corrosivos: Devido à sua excelente resistência à corrosão, o Cilindro de Grafite CVD SiC pode ser usado em ambientes quimicamente corroídos, como gases corrosivos ou ambientes líquidos durante a fabricação de semicondutores.
Equipamento de crescimento de semicondutores: Capas protetoras ou outros componentes usados em equipamentos de crescimento de semicondutores para proteger equipamentos contra altas temperaturas, corrosão química e desgaste para garantir a estabilidade do equipamento e confiabilidade a longo prazo.
Estabilidade em altas temperaturas, resistência à corrosão, excelentes propriedades mecânicas, condutividade térmica. Com esse excelente desempenho, ajuda a dissipar o calor de forma mais eficiente em dispositivos semicondutores, mantendo a estabilidade e o desempenho do dispositivo.
Propriedades físicas básicas do revestimento CVD SiC | |
Propriedade | Valor típico |
Estrutura Cristalina | FCC fase β policristalina, orientada principalmente (111) |
Densidade | 3,21g/cm³ |
Dureza | Dureza Vickers 2500 (carga de 500g) |
Tamanho do grão | 2~10μm |
Pureza Química | 99,99995% |
Capacidade de calor | 640 J·kg-1·K-1 |
Temperatura de Sublimação | 2700°C |
Resistência à Flexão | 415 MPa RT de 4 pontos |
Módulo de Young | Curvatura de 430 Gpa 4pt, 1300℃ |
Condutividade Térmica | 300W·m-1·K-1 |
Expansão Térmica (CTE) | 4,5×10-6K-1 |