Os fornos de oxidação e difusão são usados em vários campos, como dispositivos semicondutores, dispositivos discretos, dispositivos optoeletrônicos, dispositivos eletrônicos de potência, células solares e fabricação de circuitos integrados em larga escala. Eles são utilizados para processos que incluem difusão, oxidação, recozimento, liga e sinterização de wafers.
A VeTek Semiconductor é um fabricante líder especializado na produção de grafite de alta pureza, carboneto de silício e componentes de quartzo em fornos de oxidação e difusão. Estamos comprometidos em fornecer componentes de forno de alta qualidade para as indústrias de semicondutores e fotovoltaicas e estamos na vanguarda da tecnologia de revestimento de superfície, como CVD-SiC, CVD-TaC, pirocarbono, etc.
Resistência a altas temperaturas (até 1600 ℃)
Excelente condutividade térmica e estabilidade térmica
Boa resistência à corrosão química
Baixo coeficiente de expansão térmica
Alta resistência e dureza
Longa vida útil
Em fornos de oxidação e difusão, devido à presença de gases corrosivos e de alta temperatura, muitos componentes requerem o uso de materiais resistentes a altas temperaturas e à corrosão, entre os quais o carboneto de silício (SiC) é uma escolha comumente utilizada. A seguir estão os componentes comuns de carboneto de silício encontrados em fornos de oxidação e fornos de difusão:
Barco de wafer
O barco wafer de carboneto de silício é um contêiner usado para transportar wafers de silício, que pode suportar altas temperaturas e não reage com wafers de silício.
Tubo do Forno
O tubo do forno é o componente principal do forno de difusão, usado para acomodar pastilhas de silício e controlar o ambiente de reação. Os tubos do forno de carboneto de silício têm excelente desempenho em alta temperatura e resistência à corrosão.
Placa Defletora
Usado para regular o fluxo de ar e a distribuição de temperatura dentro do forno
Tubo de proteção de termopar
Usado para proteger termopares de medição de temperatura do contato direto com gases corrosivos.
Remo cantilever
As pás cantilever de carboneto de silício são resistentes a altas temperaturas e corrosão e são usadas para transportar barcos de silício ou barcos de quartzo que transportam pastilhas de silício para os tubos do forno de difusão.
Injetor de gás
Usado para introduzir gás de reação no forno, precisa ser resistente a altas temperaturas e corrosão.
Porta-barcos
O porta-barcos de wafer de carboneto de silício é usado para fixar e suportar wafers de silício, que apresentam vantagens como alta resistência, resistência à corrosão e boa estabilidade estrutural.
Porta do Forno
Revestimentos ou componentes de carboneto de silício também podem ser usados na parte interna da porta do forno.
Elemento de aquecimento
Os elementos de aquecimento de carboneto de silício são adequados para altas temperaturas, alta potência e podem aumentar rapidamente as temperaturas para mais de 1000 ℃.
Forro de SiC
Usado para proteger a parede interna dos tubos do forno, pode ajudar a reduzir a perda de energia térmica e suportar ambientes agressivos, como alta temperatura e alta pressão.
O SiC Cantilever Paddle da VeTek Semiconductor é um produto de altíssimo desempenho. Nossa pá cantilever SiC é normalmente usada em fornos de tratamento térmico para manuseio e suporte de wafers de silício, deposição química de vapor (CVD) e outros processos de processamento em processos de fabricação de semicondutores. A estabilidade em altas temperaturas e a alta condutividade térmica do material SiC garantem alta eficiência e confiabilidade no processo de processamento de semicondutores. Estamos comprometidos em fornecer produtos de alta qualidade a preços competitivos e esperamos nos tornar seu parceiro de longo prazo na China.
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consulte Mais informaçãoEnviar consultaA pá cantilever de carboneto de silício da VeTek Semiconductor é um componente importante no processo de fabricação de semicondutores, especialmente adequado para fornos de difusão ou fornos LPCVD em processos de alta temperatura, como difusão e RTP. Nossa pá cantilever de carboneto de silício é cuidadosamente projetada e fabricada com excelente resistência a altas temperaturas e resistência mecânica, e pode transportar wafers de forma segura e confiável para o tubo de processo sob condições adversas de processo para vários processos de alta temperatura, como difusão e RTP. Estamos ansiosos para nos tornarmos seu parceiro de longo prazo na China.
consulte Mais informaçãoEnviar consultaVeTek Semiconductor High Pure Silicon Carbide Wafer Carrier são componentes importantes no processamento de semicondutores, projetados para segurar e transportar com segurança wafers de silício delicados, desempenhando um papel fundamental em todas as etapas da fabricação. O transportador de wafer de carboneto de silício de alta pureza da VeTek Semiconductor é cuidadosamente projetado e fabricado para garantir excelente desempenho e confiabilidade. A VeTek Semiconductor está comprometida em fornecer produtos de qualidade a preços competitivos e esperamos ser seu parceiro de longo prazo na China.
consulte Mais informaçãoEnviar consultaO barco wafer de carboneto de silício de alta pureza da VeTek Semiconductor é feito de material de carboneto de silício extremamente puro com excelente estabilidade térmica, resistência mecânica e resistência química. O barco wafer de carboneto de silício de alta pureza é usado em aplicações de zona quente na fabricação de semicondutores, especialmente em ambientes de alta temperatura, e desempenha um papel importante na proteção de wafers, transporte de materiais e manutenção de processos estáveis. A VeTek Semiconductor continuará a trabalhar duro para inovar e melhorar o desempenho do barco wafer de carboneto de silício de alta pureza para atender às necessidades crescentes da fabricação de semicondutores. Estamos ansiosos para nos tornarmos seu parceiro de longo prazo na China.
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