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China Revestimento de carboneto de silício Fabricante, fornecedor, fábrica

A VeTek Semiconductor é especializada na produção de produtos de revestimento de carboneto de silício ultrapuros. Esses revestimentos são projetados para serem aplicados em grafite purificado, cerâmica e componentes de metal refratário.

Nossos revestimentos de alta pureza são direcionados principalmente para uso nas indústrias de semicondutores e eletrônicos. Eles servem como uma camada protetora para transportadores de wafers, susceptores e elementos de aquecimento, protegendo-os de ambientes corrosivos e reativos encontrados em processos como MOCVD e EPI. Esses processos são essenciais para o processamento de wafers e fabricação de dispositivos. Além disso, nossos revestimentos são adequados para aplicações em fornos a vácuo e aquecimento de amostras, onde são encontrados ambientes de alto vácuo, reativos e de oxigênio.

Na VeTek Semiconductor, oferecemos uma solução abrangente com nossos recursos avançados de oficina mecânica. Isso nos permite fabricar os componentes básicos usando grafite, cerâmica ou metais refratários e aplicar os revestimentos cerâmicos SiC ou TaC internamente. Também fornecemos serviços de revestimento para peças fornecidas pelo cliente, garantindo flexibilidade para atender diversas necessidades.

Nossos produtos de revestimento de carboneto de silício são amplamente utilizados em epitaxia de Si, epitaxia de SiC, sistema MOCVD, processo RTP/RTA, processo de gravação, processo de gravação ICP/PSS, processo de vários tipos de LED, incluindo LED azul e verde, LED UV e UV profundo LED etc., que é adaptado a equipamentos LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI e assim por diante.


Peças do reator que podemos fazer:

Aixtron G5,EPI susceptor,MOCVD susceptor


Revestimento de carboneto de silício com várias vantagens exclusivas:

Silicon Carbide Coating several unique advantages


Parâmetro de revestimento de carboneto de silício semicondutor VeTek:

Propriedades físicas básicas do revestimento CVD SiC
Propriedade Valor típico
Estrutura Cristalina FCC fase β policristalina, orientada principalmente (111)
Densidade 3,21g/cm³
Dureza Dureza Vickers 2500 (carga de 500g)
Tamanho do grão 2~10μm
Pureza Química 99,99995%
Capacidade de calor 640 J·kg-1·K-1
Temperatura de Sublimação 2700°C
Resistência Flexural 415 MPa RT de 4 pontos
Módulo de Young Curvatura de 430 Gpa 4pt, 1300℃
Condutividade Térmica 300W·m-1·K-1
Expansão Térmica (CTE) 4,5×10-6K-1

SEM data and structure of CVD SIC films


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Suporte revestido de SiC para LPE PE2061S

Suporte revestido de SiC para LPE PE2061S

VeTek Semiconductor é um fabricante e inovador líder de suporte revestido de SiC para LPE PE2061S na China. Somos especializados em material de revestimento de SiC há muitos anos. Oferecemos um suporte revestido de SiC para LPE PE2061S projetado especificamente para reator de epitaxia de silício LPE. Este suporte revestido de SiC para LPE PE2061S é a parte inferior do susceptor de barril. Ele pode suportar altas temperaturas de 1600 graus Celsius, prolongar a vida útil do produto da peça sobressalente de grafite.

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Placa superior revestida de SiC para LPE PE2061S

Placa superior revestida de SiC para LPE PE2061S

VeTek Semiconductor é um fabricante líder de placa superior revestida de SiC para LPE PE2061S e inovador na China. Somos especializados em material de revestimento de SiC há muitos anos. Oferecemos uma placa superior revestida de SiC para LPE PE2061S projetada especificamente para reator de epitaxia de silício LPE. Esta placa superior revestida de SiC para LPE PE2061S é a parte superior junto com o susceptor de barril. Esta placa revestida de SiC CVD possui alta pureza, excelente estabilidade térmica e uniformidade, tornando-a adequada para o cultivo de camadas epitaxiais de alta qualidade. na China.

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Susceptor de barril revestido de SiC para LPE PE2061S

Susceptor de barril revestido de SiC para LPE PE2061S

VeTek Semiconductor é um fabricante líder de susceptor de barril revestido de SiC para LPE PE2061S e inovador na China. Somos especializados em material de revestimento de SiC há muitos anos. Oferecemos um susceptor de barril revestido de SiC projetado especificamente para wafers LPE PE2061S 4''. Este susceptor apresenta um revestimento durável de carboneto de silício que melhora o desempenho e a durabilidade durante o processo LPE (epitaxia de fase líquida). Convidamos você a visitar nossa fábrica na China.

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Cabeça de chuveiro a gás SiC sólido

Cabeça de chuveiro a gás SiC sólido

VeTek Semiconductor é um fabricante líder e inovador de chuveiro de gás SiC sólido na China. Somos especializados em material semicondutor há muitos anos. , garantindo que o substrato seja aquecido uniformemente. Estamos ansiosos para estabelecer um relacionamento de longo prazo com você na China.

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Processo de Deposição de Vapor Químico Anel de Borda SiC Sólido

Processo de Deposição de Vapor Químico Anel de Borda SiC Sólido

VeTek Semiconductor é um fabricante líder e inovador de anel de borda sólida de SiC para processo de deposição de vapor químico na China. Somos especializados em material semicondutor há muitos anos. , garantindo resultados de gravação consistentes e confiáveis. Estamos ansiosos para nos tornar seu parceiro de longo prazo na China.

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Anel de foco de gravação em SiC sólido

Anel de foco de gravação em SiC sólido

VeTek Semiconductor é um fabricante líder e inovador de anel de foco de gravação de SiC sólido na China. Somos especializados em material de SiC há muitos anos. erosão. Esperamos nos tornar seu parceiro de longo prazo na China.

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