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Suporte para revestimento de carboneto de tântalo
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Suporte para revestimento de carboneto de tântalo

Como fabricante e fábrica profissional de produtos de suporte para revestimento de carboneto de tântalo na China, o Suporte para revestimento de carboneto de tântalo VeTek Semiconductor é geralmente usado para revestimento de superfície de componentes estruturais ou componentes de suporte em equipamentos semicondutores, especialmente para proteção de superfície de componentes-chave de equipamentos em processos de fabricação de semicondutores, como DCV e PVD. Bem-vindo a sua consulta adicional.

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Descrição do produto

A principal função do VeTek SemiconductorRevestimento de carboneto de tântalo (TaC)O apoio é para melhorarresistência ao calor, resistência ao desgaste e resistência à corrosãodo substrato revestindo uma camada de Revestimento de Carboneto de Tântalo, de modo a melhorar a precisão e confiabilidade do processo e prolongar a vida útil dos componentes. É um produto de revestimento de alto desempenho utilizado na área de processamento de semicondutores.


O suporte de revestimento de carboneto de tântalo da VeTek Semiconductor tem uma dureza Mohs de quase 9 ~ 10, perdendo apenas para o diamante. Possui resistência ao desgaste extremamente forte e pode resistir eficazmente ao desgaste superficial e ao impacto durante o processamento, prolongando efetivamente a vida útil dos componentes do equipamento. Combinado com seu alto ponto de fusão de cerca de 3880°C, é frequentemente usado para revestir componentes-chave de equipamentos semicondutores, como revestimentos de superfície de estruturas de suporte, equipamentos de tratamento térmico, câmaras ou juntas em equipamentos semicondutores para aumentar sua resistência ao desgaste e altas temperaturas. resistência.


Devido ao ponto de fusão extremamente alto do carboneto de tântalo de cerca de 3880°C, em processos de processamento de semicondutores comodeposição química de vapor (CVD)edeposição física de vapor (PVD), O revestimento TaC com forte resistência a altas temperaturas e resistência à corrosão química pode proteger efetivamente os componentes do equipamento e evitar corrosão ou danos ao substrato em ambientes extremos, fornecendo proteção eficaz para ambientes de alta temperatura na fabricação de wafers. Esse recurso também determina que o suporte de revestimento de carboneto de tântalo da VeTek Semiconductor seja frequentemente usado em processos corrosivos e de gravação.


O suporte de revestimento de carboneto de tântalo também tem a função de reduzir a contaminação por partículas. Durante o processamento do wafer, o desgaste superficial geralmente produz contaminação por partículas, o que afeta a qualidade do produto do wafer. As características extremas do produto do TaC Coating, de dureza próxima de 9-10 Mohs, podem efetivamente reduzir esse desgaste, reduzindo assim a geração de partículas. Combinado com a excelente condutividade térmica do revestimento TaC (cerca de 21 W/m·K), ele pode manter uma boa condutividade térmica sob condições de alta temperatura, melhorando significativamente o rendimento e a consistência da fabricação de wafers.


Os principais produtos de revestimento TaC da VeTek Semiconductor incluemAquecedor de revestimento TaC, Cadinho de revestimento CVD TaC, Susceptor de rotação de revestimento TaCePeça sobressalente de revestimento TaC, etc., e oferece suporte a serviços de produtos personalizados. A VeTek Semiconductor está comprometida em fornecer produtos e soluções técnicas de excelência para a indústria de semicondutores. Esperamos sinceramente nos tornar seu parceiro de longo prazo na China.


Revestimento de carboneto de tântalo (TaC) em uma seção transversal microscópica:


Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 1Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 2Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 3Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 4


Propriedades físicas básicas do revestimento CVD TaC


Propriedades físicas do revestimento TaC
Densidade
14,3 (g/cm³)
Emissividade específica
0.3
Coeficiente de expansão térmica
6,3*10-6/K
Dureza (HK)
2.000HK
Resistência
1x10-5Ohm*cm
Estabilidade térmica
<2500℃
Mudanças no tamanho do grafite
-10~-20um
Espessura do revestimento
≥20um valor típico (35um±10um)

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