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China Processo de Epitaxia SiC Fabricante, fornecedor, fábrica

Os revestimentos de metal duro exclusivos da VeTek Semiconductor fornecem proteção superior para peças de grafite no processo SiC Epitaxy para o processamento de materiais semicondutores e semicondutores compostos exigentes. O resultado é uma vida útil prolongada do componente de grafite, preservação da estequiometria da reação, inibição da migração de impurezas para aplicações de epitaxia e crescimento de cristais, resultando em maior rendimento e qualidade.

Nossos revestimentos de carboneto de tântalo (TaC) protegem componentes críticos de fornos e reatores em altas temperaturas (até 2.200°C) contra amônia quente, hidrogênio, vapores de silício e metais fundidos. A VeTek Semiconductor possui uma ampla gama de recursos de processamento e medição de grafite para atender às suas necessidades personalizadas, para que possamos oferecer um revestimento pago ou serviço completo, com nossa equipe de engenheiros especializados prontos para projetar a solução certa para você e sua aplicação específica. .

Cristais semicondutores compostos

A VeTek Semiconductor pode fornecer revestimentos TaC especiais para vários componentes e transportadores. Através do processo de revestimento líder da indústria da VeTek Semiconductor, o revestimento TaC pode obter alta pureza, estabilidade em alta temperatura e alta resistência química, melhorando assim a qualidade do produto das camadas cristal TaC/GaN) e EPl, e estendendo a vida útil dos componentes críticos do reator.

Isoladores térmicos

Componentes de crescimento de cristais SiC, GaN e AlN, incluindo cadinhos, porta-sementes, defletores e filtros. Conjuntos industriais, incluindo elementos de aquecimento resistivos, bicos, anéis de proteção e acessórios de brasagem, componentes de reatores CVD epitaxiais de GaN e SiC, incluindo transportadores de wafer, bandejas de satélite, chuveiros, tampas e pedestais, componentes MOCVD.


Propósito:

Transportador de wafer LED (diodo emissor de luz)

Receptor ALD (semicondutor)

Receptor EPI (Processo Epitaxia SiC)


Comparação de revestimento SiC e revestimento TaC:

SiC TaC
Principais características Pureza ultra alta, excelente resistência ao plasma Excelente estabilidade em altas temperaturas (conformidade do processo em altas temperaturas)
Pureza >99,9999% >99,9999%
Densidade (g/cm3) 3.21 15
Dureza (kg/mm ​​2) 2900-3300 6,7-7,2
Resistividade [Ωcm] 0,1-15.000 <1
Condutividade térmica (W/m-K) 200-360 22
Coeficiente de expansão térmica (10-6/℃) 4,5-5 6.3
Aplicativo Gabarito cerâmico de equipamento semicondutor (anel de foco, cabeça de chuveiro, wafer fictício) Crescimento de cristal único SiC, Epi, peças de equipamentos LED UV


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Cobertura de revestimento CVD TaC

Cobertura de revestimento CVD TaC

A cobertura de revestimento CVD TaC fornecida pela VeTek Semiconductor é um componente altamente especializado projetado especificamente para aplicações exigentes. Com seus recursos avançados e desempenho excepcional, nossa cobertura de revestimento CVD TaC oferece várias vantagens importantes. Nossa cobertura de revestimento CVD TaC fornece a proteção e o desempenho necessários para o sucesso.

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Susceptor Planetário de Revestimento TaC

Susceptor Planetário de Revestimento TaC

O susceptor planetário de revestimento VeTek Semiconductor'TaC é um produto excepcional para equipamentos de epitaxia Aixtron. O robusto revestimento TaC oferece excelente resistência a altas temperaturas e inércia química. Esta combinação única garante desempenho confiável e longa vida útil, mesmo em ambientes exigentes. A VeTek está comprometida em fornecer produtos de alta qualidade e servir como parceira de longo prazo no mercado chinês com preços competitivos.

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Placa de suporte do pedestal de revestimento TaC

Placa de suporte do pedestal de revestimento TaC

A placa de suporte de pedestal de revestimento TaC da VeTek Semiconductor é um produto de alta precisão projetado para atender aos requisitos específicos de processos de epitaxia de semicondutores. Com seu revestimento TaC, resistência a altas temperaturas e inércia química, nosso produto permite que você produza camadas EPI de alta qualidade. Estamos comprometidos em fornecer produtos de qualidade a preços competitivos e esperamos ser seu parceiro de longo prazo na China.

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Mandril de revestimento TaC

Mandril de revestimento TaC

O mandril de revestimento TaC da VeTek Semiconductor apresenta um revestimento TaC de alta qualidade, conhecido por sua excelente resistência a altas temperaturas e inércia química, especialmente em processos de epitaxia (EPI) de carboneto de silício (SiC). Com suas características excepcionais e desempenho superior, nosso mandril de revestimento TaC oferece várias vantagens importantes. Estamos comprometidos em fornecer produtos de qualidade a preços competitivos e esperamos ser seu parceiro de longo prazo na China.

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LPE SiC EPI Meia Lua

LPE SiC EPI Meia Lua

LPE SiC Epi Halfmoon da VeTek Semiconductor, um produto revolucionário projetado para elevar os processos de epitaxia SiC do reator LPE. Esta solução de ponta possui vários recursos importantes que garantem desempenho e eficiência superiores em todas as suas operações de fabricação. Esperamos estabelecer uma cooperação de longo prazo com você.

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Meia lua revestida com carboneto de tântalo TaC

Meia lua revestida com carboneto de tântalo TaC

VeTek Semiconductor é o principal fabricante e fornecedor na China de Carboneto de Tântalo TaC Coated Halfmoon, nos especializamos em P&D e produção, podemos controlar bem a qualidade e oferecer um preço competitivo. Você está convidado a visitar nossa fábrica para uma discussão mais aprofundada sobre uma cooperação de longo prazo.

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Como fabricante e fornecedor profissional de Processo de Epitaxia SiC na China, temos nossa própria fábrica. Se você precisa de serviços personalizados para atender às necessidades específicas de sua região ou deseja comprar Processo de Epitaxia SiC avançados e duráveis ​​fabricados na China, deixe-nos uma mensagem.
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