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China Revestimento de carboneto de tântalo Fabricante, fornecedor, fábrica

A VeTek semiconductor é fabricante líder de materiais de revestimento de carboneto de tântalo para a indústria de semicondutores. Nossas principais ofertas de produtos incluem peças de revestimento de carboneto de tântalo CVD, peças de revestimento TaC sinterizadas para crescimento de cristal SiC ou processo de epitaxia semicondutor. Aprovado pela ISO9001, a VeTek Semiconductor tem um bom controle de qualidade. A VeTek Semiconductor se dedica a se tornar inovadora na indústria de revestimento de carboneto de tântalo por meio de pesquisa e desenvolvimento contínuos de tecnologias iterativas.


Os principais produtos sãoAnel defeituoso com revestimento de carboneto de tântalo, anel de desvio revestido com TaC, peças em meia-lua revestidas com TaC, disco de rotação planetária revestido com carboneto de tântalo (Aixtron G10), cadinho revestido com TaC; Anéis revestidos com TaC; Grafite Porosa Revestida com TaC; Susceptor de grafite com revestimento de carboneto de tântalo; Anel guia revestido com TaC; Placa revestida de carboneto de tântalo TaC; Susceptor de Wafer Revestido com TaC; Anel de Revestimento TaC; Cobertura de grafite com revestimento TaC; Pedaço revestido com TaCetc., a pureza está abaixo de 5 ppm, pode atender às necessidades do cliente.


O grafite de revestimento TaC é criado revestindo a superfície de um substrato de grafite de alta pureza com uma fina camada de carboneto de tântalo por um processo proprietário de Deposição Química de Vapor (CVD).


Excellent properties of TaC coating graphite


O revestimento de carboneto de tântalo (TaC) tem ganhado atenção devido ao seu alto ponto de fusão de até 3880°C, excelente resistência mecânica, dureza e resistência a choques térmicos, tornando-o uma alternativa atraente para compostos de processos de epitaxia de semicondutores com requisitos de temperatura mais elevados, como o sistema Aixtron MOCVD e o processo de epitaxia LPE SiC. Ele também tem uma ampla aplicação no processo de crescimento de cristal SiC do método PVT.


Principais recursos:

 ●Estabilidade de temperatura

 ●Pureza ultra-alta

 ●Resistência a H2, NH3, SiH4,Si

 ●Resistência ao estoque térmico

 ●Forte adesão ao grafite

 ●Cobertura de revestimento isolante

 Tamanho de até 750 mm de diâmetro (o único fabricante na China atinge esse tamanho)


Aplicativos:

 ●Porta-wafers

 ● Susceptor de aquecimento indutivo

 ● Elemento de aquecimento resistivo

 ●Disco satélite

 ●Chuveiro

 ●Anel guia

 ●Receptor LED Epi

 ●Bocal de injeção

 ●Anel de mascaramento

 ● Escudo térmico


Revestimento de carboneto de tântalo (TaC) em uma seção transversal microscópica:


the microscopic cross-section of Tantalum carbide (TaC) coating


Parâmetro do revestimento de carboneto de tântalo semicondutor VeTek:

Propriedades físicas do revestimento TaC
Densidade 14,3 (g/cm³)
Emissividade específica 0.3
Coeficiente de expansão térmica 6,3 10-6/K
Dureza (HK) 2.000 Hong Kong
Resistência 1x10-5Ohm*cm
Estabilidade térmica <2500℃
Mudanças no tamanho do grafite -10~-20um
Espessura do revestimento ≥20um valor típico (35um±10um)


Dados EDX de revestimento TaC

EDX data of TaC coating


Dados da estrutura cristalina do revestimento TaC:

Elemento Porcentagem atômica
Pt. 1 Pt. 2 Pt. 3 Média
CK 52.10 57.41 52.37 53.96
Eles 47.90 42.59 47.63 46.04


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Como fabricante e fornecedor profissional de Revestimento de carboneto de tântalo na China, temos nossa própria fábrica. Se você precisa de serviços personalizados para atender às necessidades específicas de sua região ou deseja comprar Revestimento de carboneto de tântalo avançados e duráveis ​​fabricados na China, deixe-nos uma mensagem.
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